中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9094229 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体材料の堆積用に特別に設計された高性能の物理蒸着（PVD）原子炉です。特許取得済みのユニークなチャンバー設計により、幅広い用途で高いスループットと信頼性を実現します。AMAT P-5000は、アルミニウムやチタンなどの金属や誘電材料、窒化ガリウムなどの新世代の化合物を幅広く利用することができます。超広いチャンバーリアクターであり、高いスループットと高い均一性を実現し、さらなる加工作業の必要性を低減します。APPLIED MATERIALS P 5000の主要コンポーネントには、プロセスチャンバー、ウェーハボート、RFソースが含まれます。プロセスチャンバーには広いチャンバー設計が施されており、どの材料が堆積されているかを均一にカバレッジできます。これにより、ウェーハが一貫した方法でコーティングされ、処理における無駄な時間とエネルギーが削減されます。ウェーハボートは、最大270個のウェーハの効率的なロード、アンロード、シフトを可能にするように設計されています。チタン製で耐久性と耐久性を高めています。最後に、RFソースは、堆積している材料を活性化するために必要な高い電力を供給するために使用されます。この結果、堆積率が高くなり、その他のほとんどのアプローチが得られます。これらの部品を組み合わせることで、半導体材料の高効率かつ再現性の高い蒸着プロセスを実現します。結論として、APPLIED MATERIALS P-5000は、半導体デバイス用の幅広い材料を堆積するための理想的なソリューションです。特許取得済みのユニークなチャンバー設計により、高いスループットと均一性を実現します。この機能の組み合わせにより、効率的で信頼性の高い堆積が保証され、ユーザーはAPPLIED MATERIALS P5000の結果を信頼するために必要な自信と保証が得られます。