中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9087456 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、半導体ウェーハ上に様々な薄膜材料を堆積させるために設計された最先端の薄膜蒸着装置です。AMAT P-5000炉は、200mmおよび300mmウェーハにエピタキシャルシリコンを高品質に堆積させ、アモルファスシリコン、金属酸化物、ハフニウム系酸化物、ケイ化物など様々な薄膜を堆積させることができます。さらに、有機材料の薄膜やアルミニウムや銅の金属層を堆積させることができます。APPLIED MATERIALTS P 5000リアクターは、シングルウェーハ、クローズドスペース反応熱処理システムです。それは沈殿部屋のイオン化そして指示のガスの流れのためのイオンビーム源を含んでいます、 高純度の気体前駆体の制御可能な流入のための水晶プロセスウィンドウ、 チャンバーにイオンを導入し、基板表面にそれらを指示するために、プロセスウィンドウのすぐ上に配置されたシャワーヘッド、 プロセスチャンバー内の各基板を正確に配置するために使用される可動基板ホルダーと、フィルム蒸着中にチャンバ内の真空を維持するためのターボポンピングユニット。この機械には、基板の積み下ろし用の精密ロボットアームと、蒸着プロセスで使用されるガスごとに個別のフローコントローラを備えたガス処理ツールも含まれています。AMAT P 5000のシングルウェーハリアクターは、最高温度900°Cを達成することができ、室温から最高温度までの温度で使用することができます。また、酸素濃縮環境で使用することで、成膜速度を向上させ、成膜温度を下げることができます。このアセットはまた、シート抵抗、シートドーピング、膜厚などの堆積層の材料特性を測定できる統合スキャンヘッドを備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、独自の設計と機能により、精度と正確な成膜を可能にする薄膜成膜用の汎用性の高いツールです。このモデルは、優れた結果を持つ様々な薄膜材料の堆積が可能であり、クリーンルーム環境での使用に適しています。装置は高度に自動化されており、蒸着プロセスの生産性を高めるために設計されたロボットアーム、電源制御、およびプロセス監視システムで比較的使いやすいです。