中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083287 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083287
ヴィンテージ: 1996
PECVD system Process: SiO8, SiN 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、先進的な材料沈着およびエッチング処理に最適な生産可能な原子炉です。III-Vや積層薄膜成膜、電子デバイス製造、半導体デバイス製造、MEMS、 LED、金属化などの先端半導体技術などの用途に使用できます。AMAT P-5000は幅広い機能を備えており、さまざまな材料を処理することができます。高誘電率基板の加工が可能な低圧システムと、9。5 x 10-7 Torrまでの高真空処理が可能で、非反応性、非常に低圧蒸着が可能です。高電流、高電圧のオプションが複数あり、600°Cまでの高精度の基板加熱が可能で、高性能デバイスの製造に最適なツールです。APPLIED MATERIALTS P 5000システムは、高度なエッチングおよび蒸着アプリケーションのための強力なツールです。原子炉室は、深熱アニーリング、発射速度クローズドループ制御、サブ秒プラズマ開始、エッチングおよび蒸着プロセスのパルス処理などの材料プロセスを可能にする均一で一貫したプロセスを確保するための円筒形の設計です。また、データ取得やリアルタイムのプロセス監視など、柔軟性とプロセス精度を最適化するためのさまざまな制御オプションも提供しています。APPLIED MATERIALS P5000は、モジュラー式の自動システムとして設計されており、材料の蒸着とエッチングプロセスを高速化するさまざまなオプションを備えています。自動化されたサンプルインアウトプロセスと、サンプル混合物の迅速な輸送とロードを可能にするロボティクスを備えています。このオートメーションにより、さまざまな生産プロセスにおいて衛生的で安全な選択肢となります。さらに、マスフローコントローラや冷蔵循環ユニットなど、さまざまな追加部品でP-5000をアップグレードすることで、さらにパフォーマンスを向上させることができます。全体として、AMAT P 5000は、高度なエッチングおよび蒸着プロセスのための信頼性の高い汎用性の高いプラットフォームを提供します。AMAT P5000炉は、比類のない性能を備えており、さまざまな材料加工要件に対応する非常に強力なツールとして機能します。
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