中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9069051 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高度な半導体アプリケーション向けに設計された物理蒸着（PVD）原子炉です。これは、研究開発アプリケーションのための信頼性と費用対効果の高いプラットフォームだけでなく、量産要件を提供します。AMAT P-5000 PVD装置は、メカニカルハウジング、真空チャンバー、ガスラインアセンブリ、プラズマコントロールユニットの4つの主要コンポーネントで構成されています。プロセス制御を容易にするために、システムには高度なタッチスクリーンのグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が装備されています。このグラフィカルインターフェイスにより、オペレータは個々のプロセスニーズに合わせてAPPLIED MATERIALS P 5000を簡単に設定できます。P-5000の超耐久性ステンレス機械ハウジングは、最適なプロセス精度とパフォーマンスのためのクリーンな真空環境を提供します。真空チャンバー内で処理する材料へのアクセスを容易にするために、単一のドアの入り口が提供されています。一体型のガス供給ユニットにより、製造環境に必要なプロセスガスの流れを最適化できます。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000の真空チャンバーは、高度なマルチウォール構造のため、高効率で信頼性があります。このマルチウォール構造により、熱伝導率が大幅に改善され、最適な均一性と一貫して再現可能なウェーハの生産結果が得られます。アプライドマテリアルズP-5000のプラズマコントロールユニットには、さまざまな強力なオートメーション機能が搭載されています。これには、ウェーハフローを制御し、自己診断を有効にし、プロセスレシピを構成し、手動制御を可能にする機能が含まれます。このユニットには、最も正確な沈着結果を保証する独自の自動レベリング機能も含まれています。最後に、AMAT P5000は機械の安全な操作を保障するために安全機能の範囲が装備されています。これには、自動ツールシャットオフ、緊急オフサイクル保護、およびオプションの一酸化物保護が含まれます。全体として、AMAT P 5000は、高度な半導体アプリケーションに効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いプラットフォームを提供するように設計されています。この資産は、研究開発アプリケーションや量産要件に最適です。これは、安全で効率的な方法で一貫した再現性のあるウェーハの生産結果と信頼性の高い動作を確保するために、高度な機能の範囲を備えています。
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