中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056702 を販売中

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ID: 9056702
ヴィンテージ: 1999
PECVD System, 8" Mark II P5000 mainframe (4) Chambers 15 slot storage elevator 8” Cassette Handler Bolt down load luck lid with purge Phase III robot Remote Rack with (2) ENI OEM 12B 13.56Mhz generators Steelhead Heat Exchanger Thru the wall interface with (2) monitors: (1) TTW, (1) stand alone PLIS Cabinet PLIS Minicontroller DPS generator rack with ENI DPG-10 Generator and DPA Interlock board Chamber A: Universal PECVD chamber Cluster Throttle valve Gold Style Lamp module Phase IV RF match Dual manometers with 100/1000 Torr manometers Unit 1660 MF calibrated to customer spec STEC LF-410 LFM’s and 2410 injectors calibrated to customer spec Chamber B: Standard PECVD chamber Cluster Throttle Valve Gold Style Lamp Module Phase IV RF Match Dual manometers with 10/1000 Torr manometers 1660 MFC’s calibrated to customer spec 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、半導体、薄膜半導体、磁性材料の成膜、エッチングなどの薄膜加工に特化した高性能加工装置です。このツールは、量産とR&Dアプリケーションの両方に使用されます。AMAT P-5000リアクターには、レーザー&光学プロセスモジュールとCPU/DSPベースのコントローラがあります。レーザー&光学プロセスモジュールは、精密リニアレールにリニアバキュームチャンバーを搭載した6軸モーションシステムで、正確で再現性のある動きを可能にします。レーザー&光プロセスモジュールは、高解像度レーザーユニット、フォーカスカメラ、光ファイバーおよびレーザー通信で構成されています。CPU/DSPベースのコントローラは、ガスと原料、RFおよびDCバイアス、ウェハ温度、時間、エネルギー、加速度などのパラメータをプログラム可能に制御できます。APPLIED MATERIALS P 5000リアクターはまた、広範囲の処理条件にわたって複数の温度を提供することができる対流マシンを備えています。高レートマスフローコントローラや低速マスフローコントローラなど、複数のガス分配システムを備えています。ガス分布ツールは、原子炉内のリアクタント種の時間的および空間的分布を制御するのに役立ちます。処理中に無線周波数(RF)および直流(DC)バイアスを適用することもでき、反応中の活性種の生成を可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000リアクターには、多くのプロセス強化機能もあります。このモデルには高真空の排気資産が含まれており、反応副生成物を迅速かつ効率的に避難させることができます。さらに、ウェーハサンプルを素早く取り込むように設計されており、プロセスの継続的な洗練と改善を可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000リアクターは、半導体、薄膜半導体、磁性材料の成膜、エッチングなどの薄膜加工において優れた性能を達成するための有効なツールです。
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