中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9027761 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体ウェーハの製造用に設計された先進的なプロセス炉です。その機能には、加熱エンクロージャ、可変速度ガス供給装置、および温度制御が含まれます。原子炉の外壁は、腐食に耐え、原子炉の内部を安定させるように設計された無毒な合金で作られています。基板への異なるガスの流れを最適化するために、可変速度ガス供給システムが使用されます。これにより、望ましいフィルムタイプを生成することができる高度な堆積率が得られます。AMAT P-5000は、温度と圧力範囲の範囲で動作するように設計されています。それに基質の熱要件に調節する調節可能なサーマルサイクラーがあります。サーマルサイクラーは、基板の温度制御要素も提供します。APPLIED MATERIALTS P 5000は、高速応答パルス熱制御により、より均一な蒸着速度と改善された温度制御を提供します。この技術は、一貫した反復可能な結果を保証するのに役立ちます。このユニットには、蒸着プロセス中の基板温度を監視するために使用される圧力モニタも含まれています。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000は、成膜プロセス中の基板の均一性を監視するように設計されたプロセス制御機も備えています。これにより、プロセスを特定のアプリケーションに合わせて調整できます。これに加えて、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、クローズドループ制御技術を使用して、従来の方法よりも高い精度を提供します。この高度なプロセス制御ツールは、製品の品質を向上させ、歩留まりを最適化します。P5000の全体的なサイズと重量は比較的小さく、軽量であるため、幅広い製造および研究用途での使用に最適です。これは、再現性と信頼性の高い結果を生み出すことができる高度なプロセスの原子炉を必要とする半導体およびオプトエレクトロニクスメーカーにとって理想的な選択肢です。