中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690473 を販売中

「AMAT/APPLIED MATERIALS P5000」リアクターは、主にMEMSおよび半導体産業で使用される単一のウェハプロセスツールであり、薄膜成膜を含む高精度で高性能なプロセスを提供します。AMAT P-5000は、シリコンウェーハに薄膜層を堆積させるために真空蒸着源を使用しています。半導体、MEMS、オプトエレクトロニクス用途向けの業界トップクラスの機器です。システムはモジュラー設計で構成されており、最大4つのウェーハソースを同時に1x2x2構成で動作させることができます。また、基板処理用のロボットマシンも備えており、最大4インチの基板を動作させるように設計されていますが、5インチのプロセス実行も可能です。APPLIED MATERIALS P 5000で利用可能な薄膜蒸着プロセスにより、ウェハ全体に均一な材料を蒸着できます。このツールのもう1つの特徴は、酸化および窒化プロセスが組み込まれており、酸化された材料の堆積を可能にします。P5000が使用する高度な薄型ウェーハ技術により、他の装置と比較して、成膜プロセスをより正確かつ均一にすることができます。このアセットは、特定の薄膜層を10nm程度小さくするように特別に設計されています。基板ヒーターは、プロセス中に積極的に制御され、高温まで加熱されるため、均一性と均一な薄膜層が向上します。さらに、RF、 DC、マイクロ波電源を搭載し、複雑な材料や構造を合成することができます。この装置は、1時間あたり最大50個のウェーハを処理できるため、大量のスループットを可能にします。沈殿プロセスに関連するすべてのパラメータは、埋め込み制御システムを介して制御することができ、沈殿プロセスごとに最適化されたパラメータを可能にします。さらに、幅広い基板材料と基板の厚さに対応できるように設計されています。結論として、P 5000は薄膜蒸着プロセスの先進的な機械であり、MEMSおよび半導体要件に特化して設計されています。ウエハ全体にわたって精密な薄膜成膜と均一性を可能にするため、研究開発に最適なツールです。温度制御システムや自動ハンドリングなどの機能を備えたP-5000は、薄膜堆積物のための強力で信頼性の高いツールです。