中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609012 を販売中

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ID: 293609012
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Etcher, 8" (3) Mark II Etch chambers: Resin/Arc, Oxide, Nitride, Silicon ENI OEM-12B Generator ESC Chuck Remote frame Does not include chiller 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高性能のDCダイオードスパッタリングとイオンアシスト蒸着技術の精密プロセスリアクタシステムです。この汎用性の高いリアクターは、スパッタリングとイオン補助蒸着の両方の利点を組み合わせることで、ユーザーがアプリケーションに最適な蒸着技術を使用できるように設計されています。AMAT P-5000は、電子、光学、半導体、マイクロエレクトロニック、MEMS、バイオメディカルなど、さまざまな分野で使用される薄膜表面および部品の製造用に特別に設計されています。APPLIED MATERIALS P 5000の中心には、正確で一貫した反復可能な動作を実現する高度なマイクロプロセッサ制御DCダイオード電源があります。電源は最大20kWの電力を供給することができます。これは、さまざまな要件を満たすためにターゲット、基板、およびプロセスガスの広い範囲を提供しています。APPLIED MATERIALS P-5000は、革新的な毛布蒸着技術により、壁と壁のチャンバー全体に均一な高精度の蒸着を提供し、1回のシャッターサイクルで最適な性能を得ることができます。これは、プロセス時間と材料コストを削減するのに役立ちます。その先進的なプラズマ原子炉は、プラズマ室で安定した均一な電力を提供する合計4つのランプを持っています。アプライドマテリアルズ(APPLIED MATERIALS) P5000は、チャンバー内の電子放射率を制御するためのマグネトロンも。これにより、スパッタリング速度が速くなり、預金の均一性が向上します。P5000は、幅広い薄膜基板の製造を成功させるための素晴らしい選択肢となる多くの追加機能を提供します。これは、ミスアライメントによる基板の損傷を防ぐための自動インデクサを含みます。その圧力制御は、チャンバー内の最適な真空圧力を可能にし、その基板加熱機能は、沈着の歩留まりと品質を向上させるために使用することができます。AMAT P 5000は優れた性能、安定性、使いやすさを提供します。優れた均一性と精度で幅広い薄膜基板を効率的に製造するために使用できます。これにより、さまざまな用途に対応する独自の高性能メディアを製造するための理想的なツールとなります。
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