中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #177998 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）用に設計された超高真空蒸着（UHVD）装置です。現在の先進的な半導体製造に使用されているツールで、消費者製品に使用される半導体、ディスプレイ、その他のデバイスの製造のための薄膜の堆積を可能にします。このシステムは、様々な用途のための誘電体および金属膜の堆積において優れた性能を提供します。AMAT P-5000炉は、迅速かつ効率的なUHVDプロセス機能のために設計されており、不純物や紛争のない正確な組成制御でフィルムを堆積させることができます。それに今日の複雑な電子装置の生産のための主な特徴である優秀な均等性、ステップ適用範囲および厚さ制御があります。このユニットは、重要なプロセスパラメータを最適なレベルに保つための高度な内部最適化プロセスを備えています。効率的な静電容量結合パワーユニットを使用して、高い蒸着率を実現するために電力の均一な配分を確保します。アプライドマテリアルズP 5000リアクターは、最大1ワットのRF電力を供給できる複数のフィールド型の誘導結合プラズマ源を備えています。また、-150〜600°Cの範囲で正確な温度制御を提供します。このマシンには診断温度コントローラが内蔵されており、プロセス温度を正確に測定できます。ユーザーはまた各フィルムの沈殿を合わせるために手動で環境を調節できます。P 5000リアクターは、自動圧力レギュレータと不活性ガスブランケットを含む高度な安全機能を提供します。それは遠隔警報および用具の安全な操作を保障する自動シャットダウン機能と設計されています。P-5000原子炉は、誘電体、金属および窒化物、酸化物、およびポリマーを堆積することができるため、優れた汎用性を提供します。フォトレジストの堆積や半導体デバイスの製造に適しています。この資産は、ワイヤおよび接触プロセスに不可欠な白金金属の堆積にも適しています。全体として、P5000炉は高度で信頼性の高いモデルであり、優れたプロセス制御と性能を提供します。その優れた機能と機能は、今日の複雑なアプリケーションに最適なツールです。