中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、高度な半導体デバイス製造用に設計されたエピタキシャル蒸着および平面化装置です。AMAT P-5000炉は、幅広い半導体用途においてエピタキシャル材料の信頼性と正確な蒸着を可能にするシングルチャンバーソリューションを提供します。アプライドマテリアルズP 5000リアクターには、正確な温度制御のための5ゾーン、マルチゾーンコントローラを備えた400mmサセプタプラットフォームが装備されています。基板は、チャンバー下面下にある高速独立した電動サセプタコイルによって加熱されます。また、サセプタプラットフォームは最大24個のウェーハを同時に収容できるように設計されています。AMAT P 5000リアクターの特許取得済みライナースプリング（TM）エンドエフェクターは、あらゆるタイプとサイズの基板に対応し、異なる基板に対応するためにエンドエフェクタを交換する必要がありません。AMAT P5000リアクターはまた、簡単に使いやすいプログラム可能なソフトウェアと、自動圧力レギュレーション、フォールトモニタリング、フラットプレート真空デガなど、生産性を向上させる多くの機能を提供しています。また、1つのエンリッチメント/エレメントソースと5つのエレメンタルソースを組み合わせて、さまざまなタイプの堆積を提供するように構成することができます。APPLIED MATERIALS P5000原子炉には、ソース・ガス・マス・フロー・コントローラ（MFC）、パージ入口と出口のガス・ストリーム、パージ・マニホールド、各ソースの個別触媒などの先進的なガス配送コンポーネントも備えています。また、半導体デバイスP5000蒸着の厳しい動作要件を満たすように構成された多段ターボ分子ポンプユニットを備えています。この機械は、高度なソースとさまざまな高度な材料加工技術を組み合わせて設計されており、超クリーンなプロセス雰囲気を確保しています。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000には「、エアストリーム」チャンバーと呼ばれる追加チャンバーも付属しています。これにより、可能な限り最高のスループットでデバイス処理のための高度な材料を堆積するための追加のソースが可能になります。エアストリームは、チャンバーの外側ではなくチャンバー内でソースを直接充電することを可能にし、別のチャンバー設計のために原子炉へのガスラインは簡単にパージされます。P 5000リアクターは、最高レベルの信頼性と制御を保証する完全なツール統合を提供します。オプションのデータロギングアセットにより、追加のデータ収集および分析ツールが可能になり、予防メンテナンスモデルにより最適な機器パフォーマンスが保証されます。P-5000原子炉は、あらゆる高度な半導体デバイスの製造のための多目的で信頼性の高いシステムです。