中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115356 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、精密な低圧化学蒸着（CVD）技術を提供する完全自動化された300mmシングルウェーハリアクターです。このツールは、アンビエントチャンバー、プロセスチャンバー、トランスファーチャンバー、炉など、いくつかのコンポーネントとサブユニットで構成されています。アンビエントチャンバーは、この原子炉の主要なコンポーネントの1つです。それはHEPAのエアフィルターと密封され、原子炉内の環境がきれいであることを保障します。このチャンバーには高速ロボットアームが搭載されており、ウェーハを搬送チャンバとの間に移動させるだけでなく、ウェーハの向きを正確に制御するために使用されます。プロセスチャンバーは、化学蒸着（CVD）プロセスが行われる場所です。このチャンバーには、2つのCVDリアクタが装備されており、高温および精密な低圧を使用して、ウェーハに薄い層の材料を堆積させます。プロセスチャンバー内の温度を正確に制御し、ウェハ全体に均一な蒸着を保証します。トランスファーチャンバーは、ウェーハを周囲のチャンバーからプロセスチャンバーに移動させるトランスファーロボットを収容する大型真空密閉チャンバーです。このチャンバーは、ウェーハが転送プロセス中に安全で汚染のない状態に保つように設計されています。炉はCVDプロセスの前後にウェーハを焼くのに使用される高温オーブンです。この加熱されたオーブンは、ウェーハ上の堆積物の密着性を向上させるだけでなく、均一な蒸着を支援します。AMAT P-5000は高度なコンピュータモニタリングシステムも備えており、堆積中の現在のパラメータと温度を正確に制御および監視することができます。このコンピュータモニタリングシステムにより、ユーザーはレシピを保存および取得し、内部および外部の温度を監視することもできます。全体的にAPPLIED MATERIALS P 5000リアクターは、均一な蒸着と均一な重量でウェーハ上の材料の正確な低圧化学蒸着（CVD）を行うように設計されています。このツールには、アンビエントチャンバー、プロセスチャンバー、トランスファーチャンバー、炉など、いくつかの異なるコンポーネントが装備されています。