中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #101854 を販売中
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ID: 101854
ウェーハサイズ: 6"
Etch systems, 6"
(Qty 3) ILD depostion and (Qty 1) W deposition
There are 4 chambers in each tool
Vacuum packaged and wooden crated since 2002
1992-1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体産業で集積回路を作るために使用される半導体加工ツールです。AMAT P-5000は4ゾーン方式の熱酸化反応器で、均一で一貫した処理が可能です。この装置は1500°Cまで達することができる反作用の部屋として水晶管を使用します。この制御により、温度、圧力、およびその他のパラメータの微調整が可能になり、正確な精度で酸化された表面が生成されます。システムは、予熱、酸化、クールダウン、ウェーハクリーンアップの4つのゾーンで構成されています。予熱ゾーンは、ウェーハの温度を上げるために使用される2つのヒーターで構成されています。温度は熱電対で監視され、温度コントローラで管理され、温度が正確であることを確認します。酸化ゾーンは反応チャンバーを使用して酸化プロセスを実行します。このチャンバーは、石英管、二段拡散ポンプ、酸化剤および/または還元剤の強制流量、およびマイクロ波プラズマ源の組み合わせを使用しています。この組合せは正確な精密の酸化された表面を作り出します。クールダウンゾーンは、ウェーハの温度を安全なレベルに戻すために使用されます。これは、気体パージユニットとチャンバー内のヒートシンクを使用して行われます。ウェーハクリーンアップゾーンは、ウェーハの酸化表面をきれいにし、磨くために使用されます。これは、ホットプレートと化学的クリーンアッププロセスで行われます。APPLIED MATERIALS P 5000マシンは高度にカスタマイズ可能で、デュアルゾーン温度制御、材料蒸着を調整するためのマイクロ波、および生産性を向上させるためのさまざまなアメニティなどの多くの機能を提供しています。このツールは、高度な半導体研究や生産に最適です。APPLIED MATERIALS P-5000は、高精度で均一で反復可能な結果を生み出すことができ、半導体業界にとって不可欠なツールです。
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