中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 TEOS #293824836 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 TEOSは、幅広い用途で薄膜を成長させるために使用される最先端のハイスループット原子炉装置です。このシステムは、シリコン、二酸化ケイ素、金属窒化物、金属酸化物、およびその他の誘電材料を含む材料のスライス、エッチング、および蒸着を含むアプリケーション用に設計されています。AMAT P5000 TEOSには、電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ源、方向補助プラズマエッチング、および直接液体注入（DLI）技術が搭載されています。ECRプラズマ源は、幅広いプラズマパラメータを備えたイオン化された高環境を作り出すために使用されます。方向的にプラズマアシストエッチングを使用して、処理される基板の表面に材料を正確にエッチングします。これにより、フィルムの精密なエッチングと高速成膜が可能になります。化学蒸着（CVD）のバリエーションであるDLI技術は、厚さ、組成、構造が均一なフィルムを迅速に堆積させるために使用されます。このユニットはモジュラーチャンバー設計を備えており、特定のアプリケーション用にさまざまなチャンバ構成と組み合わせることができます。高度なロボットモーションとウェーハトランスポートマシンを使用して、高いスループットを確保し、手動による介入とエラーを最小限に抑えます。このツールには、高度な温度制御および監視システムも装備されています。全体として、APPLIED MATERIALTS P5000 TEOSは、薄膜成膜およびエッチング用に設計された汎用性が高く、高スループットで先進的な原子炉アセットです。精密エッチング、高率成膜、均一なフィルムを優れた歩留まりで提供することができます。高度な制御システムと自動化されたプロセス制御により、優れたフィルムを再現性と信頼性の高い結果で成長させることができます。
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