中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226621 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP
ID: 9226621
Etcher Main frame (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxPは、半導体デバイス製造のフォトリソグラフィックプロセスに使用するために設計された金属パターニングリアクターです。この原子炉は、プラズマエッチングおよび蒸着システムの最新の技術革新を活用して、高いアスペクト比と均一な金属構造の生産に優れた結果をもたらします。この原子炉は、2つのプラズマ源タイプ(誘導結合プラズマ(ICP)および容量結合プラズマ(CCP))を選択して、ユーザーが特定のアプリケーションに最適なエッチング処理を選択できるようにします。また、構造化されたレイヤードハードマスクのエッチングパターンを可能にするチタン昇華源を使用しています。AMAT P5000 MxPは、可能な限り最高のプラズマプロセス制御と再現性を提供するために、特許取得済みのRFマッチング技術を特長としています。この原子炉には、高度なプラズマ均一性とエンドポイント検出機能が装備されており、プロセスウィンドウを強化し、正確かつ再現可能な結果を実現します。また、原子炉の革新的なレチクルキットは、異なるマスクサイズ、形状、ライン幅を利用することができ、ブラインドビア、トレンチ、レベルアップ機能などの機能を利用することができます。原子炉の高度な機能には、正確な接触パターンとエッチング深さを保証する化学機械研磨(CMP)機能、自動化されたレチクル移動システム、および均一なガス供給を保証するガス結合システムが含まれます。また、シンプルなユーザーインターフェイスやグラフィカルカラーディスプレイなど、ユーザーフレンドリーな機能も備えており、使いやすく、直感的で効率的です。結論として、APPLIED MATERIALS P5000 MxPは、複雑な構造物の製造におけるレーザー鋭い性能を提供するように設計された最先端の生産炉です。高度なプラズマソース、プロセス制御と均一性、およびユーザーフレンドリーな機能を独自に組み合わせることで、デバイス製造に多用途で費用対効果の高いソリューションとなります。
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