中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9181328 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、高度なVLSIおよびマイクロエレクトロニクスデバイスの高アスペクト比処理用に設計されたモジュラーエッチリアクターです。従来のリアクティブイオンエッチング（RIE）とプラズマ誘導化学蒸着（PICVD）プロセスを組み合わせて、写真と高アスペクト比マスクに最適化されています。このハイブリッドチャンバーは、デバイスレベルの機能定義と1つの機器内のプロセスレシピの統合を可能にします。MxP+は、最大150mmウェーハをサポートするシングルウェーハシステムで、ゲート、メイン、フォアチャンバーを備えた3ゾーン設計です。ゲートチャンバーは、真空モードとナノ乱流モードの間の遷移時間を短縮するために最適化されていますが、メインチャンバーはウェーハ表面をエッチングするための反応イオンとプラズマエネルギーを提供するために使用されます。ウェーハの裏面は前部チャンバプラズマにさらされ、均質なエッチング処理が可能です。AMAT P5000 MxP+は、最先端のデバイス設計に必要な高密度デバイス機能パターン用に設計されています。これは、アクティブおよびパッシブ環境クリーン制御技術を含む、高度に安定したプロセス環境を提供することによって達成されます。また、MxP+は高速なサイクリング時間とプロセスの再現性を提供し、より高いスループットとデバイスの歩留まりを可能にします。MxP+は、イオンビームエッチング、イオン強化プラズマエッチング、高密度プラズマエッチング、スパッタエッチングなどのエッチング技術を組み合わせ、さまざまな基板や材料をエッチングすることができます。また、最小限のアンダーカットまたは弓状の金属線のエッチングを可能にします。高レベルの精度と再現性を確保するために、圧力と温度に対するプロセス制御が強化されており、汎用性の高い電力およびガス配分システムを備えています。MxP+には使いやすいレシピ開発ソフトウェアユニットもあり、エンジニアは最小限の間隔でカスタマイズされたレシピをすばやく作成できます。レシピマシンは、プロセス設定を自動的に調整し、エッチング深さ、選択性、均一性などのリアルタイムデータを表示します。さらに、レシピメーカーソフトウェアには、プロセスパラメータの品質と再現性を確保するためのセーフガードが内蔵されています。結論として、APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、高度なVLSIおよびマイクロエレクトロニクスデバイスの高アスペクト比処理用に設計された先進的なリアクタツールです。エッチング技術を組み合わせ、高密度デバイスに比類のない精度、再現性、スループット率を提供します。さらに、レシピ開発を自動化した資産を有しており、迅速かつ容易に再現性の高いプロセスレシピを作成できる柔軟性をエンジニアに提供します。