中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9177952 を販売中
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販売された
ID: 9177952
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1993
System, 8"
Chamber type Process
Ch-A: Mxp Metal etch
Ch-B: MxP Metal etch
Ch-C: ASP P/R Strip
Process kit Manometer
Ch-A: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-B: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-C: Qtz 10 Torr/MKS
Clean method Throttle valve
Ch-A: RF Clean Yes
Ch-B: RF Clean Yes
Ch-C: - Yes
Turbo pump Magnet driver
Ch-A: Yes Yes
Ch-B: Yes Yes
Gas box MFC Gas name
Ch-A: Yes -
Ch-B: Yes -
Ch-C: Yes -
VME Type:
HDD: Yes
Controller slot: (21) Slots
SBC Board type: SV21 Synagy
Boss rom ver: Boss 4.8
Video board type: VGA Video
FDD: 3.5"
Robot type: Phase III
Cassette handler: Phase III (top clamp)
Sto elevator type: (8) Slots
I/O Wafer sensor: Yes
WPS Sensor: Yes
L/Lock slow vent: Yes
Slit valve type: Standard
L/Lock purge: Yes
RF Gen I/II type RF Match
Ch-A: OEM 12A Phase VI
Ch-B: OEM 12A Phase VI
Ch-C: AX2115 Manual match
EPD: E2.8
Exhaust line: Top, standard
EPD Method: Monocrometer
Gas panel: (12) Gas lines
Monitor: TTW
Mini controller: No
H/E: AMAT 0
Chiller: NESLAB
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、高品質で最先端の半導体製品を製造するための高度な高性能薄膜成膜を提供するために設計された原子炉です。このツールは、蒸着および処理を実現するために、高真空およびin-situ温度検出機能を使用します。AMAT P5000 MxP+は、CVD、 MOCVD、 ALDなどの様々な蒸着技術に使用できます。応用材料P5000 MxP+は高精度の線形軸受けを使用して密封される真空の部屋および高力間接制御されたポンプ装置と設計されています。この設計により、最大チャンバー圧力1。33 x 10-4 Torrで、堅牢で信頼性の高い真空品質が保証されます。原子炉はまた、1000°Cまでの温度で、高温動作範囲を持っています。これにより、高品質で高性能なアーキテクチャの堆積が可能になります。また、高度なin-situ診断ユニットを備えており、堆積プロセスの信頼性の高いリアルタイムモニタリングを提供します。この強力なマシンは、連続性と均一性の両方の自動化されたプロセス開発を可能にします。これは、堆積プロセスを最適化したいお客様にとって大きな利点です。MxP+P5000、危険な状況が発生しないように統合された安全機能を備えています。これには、レーザーインターロック、プロセスインターロック、およびRFシールドが含まれます。インターロックツールはまた、チャンバーパラメータがセットポイント値を下回るようにプロセスを監視します。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、プロセスロジックと資産構成のカスタマイズを可能にするカスタマイズ可能な統合オートメーションソフトウェアを提供します。このソフトウェアは優れたユーザーフレンドリーなインターフェースを備えており、外部プログラミングスキルを必要とせずにリアクタを制御できます。全体として、AMAT P5000 MxP+は、最先端の半導体製品の開発に最適な高度で堅牢な原子炉モデルです。このシステムは、高真空機能、統合温度センシング、現場診断機器、およびさまざまな安全対策を備えており、お客様が製品に求める優れた品質を提供します。
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