中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #197312 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+
ID: 197312
ウェーハサイズ: 8"
Oxide system, 8" (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は精密な半導体部品を作るように設計されている高度レベルの原子炉です。最先端のプロセス技術、統合されたツール、高度な材料分析機能を独自に組み合わせることで、印象的な結果をもたらします。AMAT P5000 MxP+は、物理蒸着(PVD)と原子層蒸着(ALD)の両方を1つのプラットフォームで組み合わせた最初の機器です。この柔軟性により、プロセス全体の再現性に優れた高速で高い歩留まり処理が可能になります。アプライドマテリアルズP5000 MxP+は、最先端の薄膜プロセス(TFP)技術を使用して、蒸着条件を正確かつ再現可能に制御します。TFPでは、温度、圧力、ガスの流れなど、さまざまなパラメータをリアルタイムで監視します。この高度な機能により、フィルムが最適化されたパフォーマンスで一貫して生成されるようになります。MxP+P5000、高解像度の光学顕微鏡とCCDイメージングを備えており、詳細なプロセス監視とフィードバックを可能にします。さらに、X線、オーガー、SIMSなどの高度な材料分析ツールをサポートし、原子レベルおよび分子レベルでの膜の特性評価を支援します。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、革新的なエンジニアリング設計機能を組み込み、ユニットの信頼性と効率を向上させます。PVDプロセスとALDプロセスを自動的に切り替えてダウンタイムを最小限に抑えるモジュラー自動切り替えマシンが含まれています。さらに、均一な動作条件を確保するために、統合された標準温度および圧力制御セクションを備えています。AMAT P5000 MxP+は、品質と性能の最高水準を満たすように設計されています。その高度な技術により、ダウンタイムを最小限に抑え、費用対効果の高い方法で、複雑なフィルムを最小限に抑えることができます。
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