中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #185395 を販売中
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販売された
ID: 185395
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1994
Oxide etch system, 8"
(2) Chambers
Software Revision SBC Board Version V21
Mainframe cables Standard / Extended (length) STD
Chamber Location A / B / C / D: A/B
Safety Module
EMO Switch(2): Present
UPS & Power Vaccine
Remote Frame
Pump Control Interface: Present
Circuit Breaker: Present
EMO Switch: Present
Expanded VME
Monitor Rack
CRT Monitor: Absent
Light Pen: Absent
Service Monitor Rack: Absent
Miscellaneous
Harddisk: Present
Floppy Disk: Present
Transformer: Present
Gas Panel standard / Extended: Expanded
Laminar Flow Hood
Mainframe cover: Absent
Loadlock Chamber
Robot Type Phase III Robot: Phase III Type
Robot Blade: 8 Inch Blade
WPS: Installed
TC Gauge: Installed
ATM Switch: Installed
Vacuum Switch: Installed
Blade Chuck Vent Kit: Absent
Vacuum Sensor(TC): Installed
Storage Elv. Slots 8 or 29: 29
Wafer IO Sensor Present or Not: OK
Electronics (BD)
System Electronics
TC guage boards(2): Installed
+12 Vdc powersupply: Installed
+15 Vdc powersupply: Installed
-15 Vdc powersupply: Installed
Buffer I/O board: Installed
AI Mux board(1): Installed
Optical sensor boards(*2ea): Installed
Chopper driver boards (*4ea): Installed
Pneumatic Control PCB: Installed
Main DC Power Supply: Installed
ESC Controller Board: Installed
Chamber A
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Chamber B:
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Endpoint module: Monocromator
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Gas Interface PCB: Gas Panel Interface/Expanded Gas Panel PCB
Solenoide V/V Module: STD/Expanded
Air V/V: FUJIKIN
Gas box A,B
MFC UNIT - 8160: CHF3 100SCCM
MFC UNIT - 8160: AR 200SCCM
MFC UNIT - 8160: CF 50SCCM
MFC UNIT - 8160: O2 10SCCM
MFC UNIT - 8160: N2 100SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、先進的な材料構造とデバイスへの研究開発のために設計された多目的フィールド使用可能な化学蒸着（CVD）装置です。このシステムは、化合物半導体、ナノ材料、超格子デバイス、単層カーボンナノチューブ、ナノワイヤ、その他の二次元層材料など、さまざまな研究開発用途に適しています。AMAT P5000 MxP+には、真空制御ユニットと特殊なデータ収集モジュールを備えた2つのチャンバーが含まれています。部屋は温度および圧力設定の広い範囲に優秀な質および一貫した性能を提供するように設計されています。APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、薄型で人間工学に基づいたデザインで、直感的なユーザーインターフェイスを備えており、簡単で効率的なセットアップが可能です。この機械のCVDプロセスは圧力および温度の基質に反応性ガス分子を泡立てる原理に基づいています。基板は事前に決定された温度に加熱され、反応ガスがチャンバーに持ち込まれます。その後、いくつかのガスの制御された混合物が反応室に注入され、そこで表面反応の制御化学環境が提供されます。CVDプロセスはリアルタイムで監視され、自動化されたツールを使用して、チャンバー内のガス速度、温度、圧力を制御します。MxP+P5000、高度なCVD温度制御アセットを備えており、厚さの均一性に優れた高アニール膜を提供します。また、多重化機能を備えており、8つの並列経路でCVDプロセスを最適化することができます。デュアルチャンバー設計により柔軟性が向上し、CVD成膜、酸化物除去などの処理を同時に行うことができます。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+は、信頼性と再現性の高い蒸着プロセスを保証するために、過圧保護、温度センサ持続時間制御、反応室温度アラームなどの内蔵安全機能を備えた監視および制御装置を備えています。このシステムは、サンプルを継続的に監視し、品質の変化を検出し、それに応じて運用パラメータを調整することもできます。AMAT P5000 MxP+は、高度な材料研究開発のための強力で信頼性の高いCVDユニットです。優れた性能、柔軟性、およびR&Dアプリケーションの精度を提供します。このマシンは、高度なCVD温度制御ツール、多重化機能、および一貫した信頼性の高い蒸着プロセスを保証する信頼性の高い監視および制御機能を提供します。
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