中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181093 を販売中

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ID: 181093
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
Etch Chamber, 8" Process: 50 and 55 spacer Loading Configuration: 2 Cassette Handler/ 29 Slot Storage System Power Rating: 208VAC 3-Phase Software Version: L4.70B Mainframe body System AC power box CRT monitor/Monitor Base/Light pen ESC Type Electrostatic 1Torr Manometer MKS 127AA-00001B Turbo pump model and size Seiko Seiki 301CB1 Turbo pump controller SCU-21D Cathode Chiller model AMAT Neslab HX150 Wall Chiller model AMAT Steelhead 1 CHX EP system Monochrometer Heater Stack/Gate valve Standard RF generator model ENI OEM-12B RF match model Hybrid RF Match IHC manometer 10 Torr Manometer IHC mfc size 20 sccm High Voltage Module Chuck Etch Chamber A: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2 Etch Chamber B: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxPは、幅広いバッチおよびシングルウェーハアプリケーションで最大限の柔軟性とパフォーマンスを実現するために設計された処理装置です。MxPは、プリインストールされたマルチポートロードロック、静電チャックおよび基板加熱素子、ガスおよび液体ソース用の3つの入出力ポート、および一連のプロセス制御および監視コンポーネントを含む自動プロセスチャンバーを備えたリアクタシステムです。このユニットには、ウェーハ配置用の高度なビジョンマシン、および精密基板処理用のモーションコントロールが装備されています。MxPは、多種多様なアプリケーションに高温固相フィルムとインタフェースを提供します。MxPは、内蔵の多段式熱プロセスを通じてアニールおよび拡散プロセスを実行します。さらに、MxPは、高度な酸化および化学蒸着(CVD)プロセスも提供します。そのプラズマ源は、アモルファスSiO2フィルム、プラズマ窒化フィルム、プラズマドープフィルムの作成を可能にします。MxPは、リアルタイムプロセスモニタリング、自動ウェーハハンドリング、インテリジェントレシピ開発を使用して、ウェーハの機能精度を保証します。そのオペレータインターフェイスは、レシピとパラメータのレビューと選択を可能にすることにより、各プロセスステップの可視性と制御を提供します。チャンバー環境は、温度、圧力、プラズマレベル、およびプロセスガスなどのリアルタイムプロセスパラメータで密接に監視されます。さらに、AMATはMxPのパフォーマンスを向上させるために特別に設計された他のいくつかのソリューションも提供しています。これらのソリューションには、現在および今後のバージョンのMxPリアクターと、MxPの革新的な機能をサポートするターンキープロセスソリューションが含まれます。AMAT P5000 MxPは、ユーザーにデバイスの性能を最大限に引き出す機能を提供し、幅広い熱処理を利用できるように設計されています。精密な温度制御、優れた製造ツール、プロセス監視機能を備えたMxPリアクタは、幅広い用途に最適です。
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