中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181092 を販売中
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販売された
ID: 181092
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
Poly etch system, 8"
Specifications:
Wafer Diameter: 8"
Process: 42 Poly
Software Version: L4.70B
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 2 Cassette Handler / 29-Slots Storage
ESC Type: Electrostatic
1Torr Manometer: MKS 127AA-00001B
Chamber Dry pump model and size: Ebara A70W
Loadlock Dry pump model and size: Ebara A10S (sharing between chamber A/B)
Turbo pump model and size: Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller: SCU-21D
Cathode Chiller model: AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model: AMAT Steelhead 1 CHX (sharing between chamber A/B)
EP system: Monochrometer
Heater Stack/Gate valve: Standard
RF generator model: ENI OEM-12B
RF match model: Hybrid RF Match
IHC manometer: 10 Torr Manometer
IHC mfc size: 20 sccm
High Voltage Module: Chuck
Process Configuration:
Chamber Position 1 / Etch Chamber A:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
Chamber Position 2 / Etch Chamber B:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxPは半導体製造業界で使用するために設計された高容量プラズマエッチング炉です。シングルウェーハ、高密度プラズマ（HDP）エッチング装置で、最大スループットと精密エッチングを実現します。AMAT P5000 MxPは、マルチステージ構成で構成されたプロセスチャンバーを備えており、さまざまなアプリケーションに最適なエッチングプロファイルを提供できます。ロードロックおよびトランスファーチャンバーは、高いスループットを提供しながら、エッチプロセスが非常に反復可能であることを保証します。自動化されたオンボードガスハンドリングシステムは、エッチング工程全体にわたって一貫したガス流量を提供します。強力な電源と効果的なクローズドループ流量制御ユニットを組み合わせることで、信頼性の高いエッチングプロセスを実現し、望ましい結果を一貫して正確に生成します。最大10インチウエハーまでの大型ウエハサイズにより、スループットが向上し、APPLIED MATERIALS P5000 MxPのコスト効率が大幅に向上します。自動化されたプロセス制御および監視機械はまた安全なエッチング・プロセスを保障するのを助けます。このツールは、金属から誘電膜まで、幅広い材料のエッチングに使用できます。また、MOSFET、 BJT、 MEMSデバイスのエッチングにも適しています。また、過剰エッチングやアンダーエッチングによる損傷を受けずに部品がエッチングされるように設計されています。信頼できる操作を保証するためP5000、 MxPにはツールのパフォーマンスを監視する診断機能が装備されています。また、予期せぬ故障が発生した場合にツールとその動作を保護するために、スペアパーツと安全インターロックの供給も含まれています。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxPは効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いプラズマエッチング炉であり、さまざまな半導体部品やその他の繊細な材料の製造に最適です。高いレベルのプロセス制御と高いスループットを提供し、自動制御ツールはエッチング処理を安全かつ効果的に実行するのに役立ちます。
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