中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313061 を販売中

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フォト（写真） 使用される AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II 販売のために
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販売された
リアクター
製造業者
AMAT / APPLIED MATERIALS
モデル
P5000 Mark II
ID: 9313061
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1993
Etcher, 8" Gas panel facilities: Top feed single-line Gas panel exhaust: Top feed Robot blade: Metal Wafer type: Notch Gas panel type: UHP EMO's: Momentary Gas lines: (28) Lines Robot type: Standard System umbilicals: 25ft MF Facilities: Rear Mainframe: Phase II Load lock slit valves: Viton NESLAB Heat exchanger VME Rack: Standard Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB Chamber A: Chamber process: Oxide Lid type: MxP+ Clamped Susceptor / Pedestal: RIE NESLAB Heater / Cathode cooling Slit valve O-ring: Chemraz Chamber O-rings: Chemraz NESLAB Wall cooling Single manometer: 1 Torr Throttle valve: Direct drive Gas valves: Nupro Chamber clamps Chamber B: Chamber process: Oxide Single manometer: Manometer 1 Torr Throttle valve: Direct drive Susceptor / Pedestal: RIE NESLAB Wall cooling NESLAB Heater / Cathode cooling LEYBOLD Turbo pump Chamber B gasses: Gas / MFC Size / Gas name Gas 1 / 100 Sccm / CHF3 Gas 2 / 200 Sccm / Ar Gas 3 / 50 Sccm / CF4 Gas 4 / 200 Sccm / O2 Gas 5 / 20 Sccm / O2 Gas 6 / 100 Sccm / N2 Gas valves: Nupro VME Rack and chamber parts missing Power supply: 208 Vac. 400 Amp, 50 Hz Transformer 1993 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark IIリアクターは、ナノ加工、ナノ粒子化、および高度な材料沈着のための汎用性と費用対効果の高いツールです。この技術的に高度な原子炉は、独立に制御された2つの高精度加熱ステージ、不活性ガスで満たされた圧力チャンバー、およびグラファイトサセプターで設計されています。最大90mmの圧力チャンバーにより、1200°Cまでの高温処理により様々な先端材料を加工することができます。再利用可能なサセプターは優秀な熱伝導性を提供し、高い融点があるグラファイトから組み立てられます。サセプターは、表面特性評価やサンプル分析などのナノ粒子化実験を行う際に、加熱された各プレートの温度を個別に制御するために使用されます。また、蒸着が必要な場合には、金属や半導体フィルムなどの材料を蒸発させるためにも使用されます。各基板の温度は独立して変化させることができます。クォーツチューブにAMAT P5000 Mark IIリアクターを供給し、不活性な環境を提供します。クォーツチューブには不活性ガスが充填されており、周囲の空気との反応による酸化やその他の劣化から先進材料を保護します。応用材料P 5000 MARK IIリアクターは、汎用性と費用対効果の高いナノ加工ツールです。デュアルソースシステムにより、複数の材料を同時に処理することができ、独自に制御された加熱ステージは正確な温度制御を提供します。グラファイトサセプターは、基板への効率的な熱の伝達を保証し、不活性ガス環境は、酸化または劣化から先進材料を保護するのに役立ちます。AMAT P 5000 MARK IIリアクターは、1200°Cまでの高温処理が可能で、先進的な材料蒸着およびナノ粒子化実験に最適です。
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