中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9175069 を販売中
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ID: 9175069
CVD System
(1) Standard CVD chamber
(1) Universal CVD chamber
Can be used for nitride or TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark IIリアクターは、高性能薄膜の成長に使用される高度な成膜ツールです。この原子炉には、精密パルスDCパワーユニット、高度な周波数発生器、温度調節器が装備されており、ナノ秒で測定される優れたプロセス制御を提供します。AMAT P5000 Mark IIにはマルチゾーンの熱制御もあり、原子炉のさまざまな部分で異なる温度を制御できます。これにより、異なる特性を持つ材料に取り組んでも、均一な蒸着速度と均一な結晶構造パラメータが保証されます。応用材料P 5000 MARK IIにはコンピュータ制御のプロセスインターフェイスがあり、ユーザーは正しい堆積プロセスをプログラムまたは自動的に実行することができます。これは、蒸着プロセスのそれぞれを最適化するためにカスタマイズすることができ、動的ガス流量管理などの最新のエネルギー効率の高い技術を備えています。これにより、高度にカスタマイズ可能になり、ユーザーは特定のアプリケーション用にカスタマイズされたフィルムを開発することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK IIは、チタンゲッターとチタン陰極電子砲撃源を備えた超高真空システムを備えています。これにより、汚染を最小限に抑えた超高真空環境を実現し、優れたフィルム品質を実現します。システムには、オプションのロードロックを備えた5"、6"および8"サセプターがあります。また、チャンバーに前駆体を導入するために使用されるガスインレットバルブと、ガス流量を正確に制御できるマスフローコントローラを備えています。AMAT P 5000 MARK IIにはRS232-basedなパーソナルコンピュータインターフェイスも装備されており、非常にユーザーフレンドリーです。また、リアクターは遠隔操作と監視が可能で、インターネットに接続してどこからでも機器にアクセスできます。これらの機能により、研究室や製造環境に最適です。要するに、P5000 Mark IIは、優れたプロセス制御、高度なエネルギー効率技術、超高真空システム、および任意の場所から機器をアクセス可能にするユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えた高性能フィルムを製造することができる強力な成膜ツールです。これは、研究室や製造環境で働く人々にとって重要なツールです。
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