中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9081647 を販売中

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ID: 9081647
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
CVD System, 8" (4) Chambers (2) TEOS Chambers with O3 (2) Sputter chamber 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark IIは反応イオンエッチャー(RIE)で、電子部品の微細加工、特にナノスケールの特徴の作成に使用されるプラズマ反応器の一種です。このツールは、プラズマパラメータを非常に高解像度かつ優れた制御で薄膜材料の精密エッチングを可能にします。システムの主なコンポーネントは、真空チャンバー、高周波電波を生成するためのアンテナ、反応管、ガス入口と出口、およびコントローラです。AMAT P5000 Mark IIは、無線周波数プラズマを利用して真空チャンバー内の反応エネルギー種を生成します。プラズマで生成された反応種はガス分子と反応し、金属アンテナによって生成された電場によって反応管に沿って加速されます。ワークピースに向けられた高エネルギー種は表面と反応し、薄膜材料をエッチングします。このツールは簡単にメンテナンスおよび校正されるように設計されており、ガス圧力、温度、電力などの主要パラメータを追跡するためにシステムにモニターが取り付けられています。5〜80˚Cの動作温度範囲と1。3〜1000mTorrの圧力範囲を備えたAPPLIED MATERIALS P 5000 MARK IIは、幅広い材料およびプロセスに適しています。応用力、反応化学および処理条件を異なる材料に最適化することができ、非常に高いエッチング速度、優れた解像度、ナノ構造トポグラフィの制御を可能にします。また、プログラム可能なオートフォーカスを備えており、エッチング時に最大50mTorrの一定の反応圧力を維持することができます。AMAT P 5000 MARK IIは、プラズマパラメータを高解像度、高精度、および優れた制御を備えた電子部品、ナノスケール機能、薄膜の微細加工に最適です。このツールは、高い信頼性とコスト効率があり、生産性と再現性の高いパフォーマンスが向上しています。
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