中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9044020 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark IIは半導体産業の化学処理のために設計された革命的な原子炉です。ウェットケミカルエッチングを必要とせずにウェーハ表面の等方性ドライエッチングを可能にする化学蒸着（CVD）装置で構築されています。また、Mark IIはユニークなデュアルチャンバー設計を誇り、2つの異なるプロセスを同時に実行できます。これにより、プロセスサイクル全体の効率が向上し、より高い歩留まりが得られ、サイクルタイムが短縮されます。AMAT P5000 Mark IIには2つの反応チャンバーが装備されており、それぞれが気密で温度制御され、独立した電源によって供給されています。さらに、このチャンバーは、酸素やプラズマベースのエッチングなど、さまざまなプロセス化学物質を可能にする、ハイエンドの不活性な雰囲気を特徴としています。これらの反応チャンバは、高温耐性ステンレス鋼で構成されており、極端な加工条件でも優れた性能を保証します。さらに、チャンバーは幅広いサセプタサイズに対応できます。応用材料P 5000 MARK IIはまた精密な温度設定のための高度の温度調整システムを提供します。このユニットには、温度コントローラ、データ収集機、プログラマブルロジックコントローラ（PLC）が装備されています。さらに、P5000は、プロセスの安全を確保するために、ガスラインのシャットオフスイッチや緊急停止ボタンなどの複数の安全機能を提供しています。P 5000 MARK IIは、堆積技術の観点から、750nm〜1。5ミクロンの範囲で薄膜を堆積する能力を提供します。また、優れた結晶品質、均一性、再現性、および優れたプロセス制御と歩留まりを保証する高温蒸着環境を提供します。さらに、低圧化学蒸着（LPCVD）および原子層蒸着（ALD）プロセスとの互換性も可能です。P5000 Mark IIは、優れた性能とプロセス制御を誇る先進的な半導体加工ツールです。独自のデュアルチャンバー設計と高度な温度制御アセットにより、さまざまな種類の高性能プロセスに最適です。また、その柔軟性と性能により、さまざまな半導体製造設定での使用に最適です。