中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #293619352 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-Jは、半導体産業における幅広いプロセス用途向けに設計された特殊原子炉です。処理されるウェーハの物理的および化学的特性を正確に制御するために、エッチングおよび蒸着プロセスを最適化するように設計されています。この原子炉は、その精度、速度、信頼性で知られています。リアクターは水平に取り付けられた真空チャンバーで、エッチングまたは蒸着技術によってパターン化できるシリコンベースのワークが含まれています。プロセスチャンバーにはスプリットリング静電チャックが装備されており、エッチングまたは蒸着動作中にワークを固定します。静電気チャックは、プロセスが迅速に発生する必要がある場合でも、正確な圧力、周期性、精度を維持することができます。また、振動を最小限に抑え、正確な結果を保証する特殊なジェットクッション技術を備えています。成膜プロセスでは、AMAT P5000 Mark II-Jは線形バレル源とプラテン源を使用して、フィルムの均一で正確な厚さを生成します。金属、酸化物、窒化物など、幅広い先端材料の堆積が可能です。アプライドマテリアルズP5000 Mark II-Jは、高度なリニアバレル技術により、従来のプラテンベースのシステムよりも高い均一性を実現しています。P5000 マークII -Jには、薄膜成膜に必要な高度なシングルウェーハ成膜技術も搭載しています。この技術は、精密バルブ、制御回路、および金属、酸化物、窒化物の堆積に合わせたプロセスチャンバーで構成されています。均一な薄膜を制御核で堆積させることができ、フィルムの欠陥の可能性を低減します。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-Jは、エッチングおよび成膜プロセスにおいて、正確な厚さと均一性を達成することができます。ウェーハ保持には高度な静電チャック、精密成膜にはリニアバレル源、薄膜製造にはシングルウェーハ成膜技術を使用しています。この原子炉は、一貫した結果を提供する信頼性の高い正確なツールです。