中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD Reactorは、様々な用途向けに設計された直感的で汎用性の高い高密度炉です。P5000 Mark IIは、プロセス最適化のための複数のプロセスチャンバーを備えた化学蒸着（CVD）システムです。AMAT P5000 Mark II CVDは、効率的かつ正確な堆積のために精密に設計された豊富な機能を備えています。そのマルチチャンバー設計は、バリアフィルム、ハードコーティング、拡散制御用の誘電膜などのアプリケーションのプロセスパラメータを最適化するために使用できます。マルチチャンバー設計により、チャンバーごとに異なる温度レジームが可能になり、複数のアプリケーションと堆積物を同時に処理できます。さらに、APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVDは、材料特性に応じて任意のプロセス変動を調整できるため、プロセス制御が向上しました。性能の向上に加えて、MARK-II CVD P5000安全性も確保しています。高解像度温度センサと加熱距離制御を搭載し、プロセス室内の雰囲気を維持してオペレータの安全を保護し、最適な温度制御を提供します。Mark II CVD P5000その他の機能には、プロセス中に有機化合物を監視および除去するための排気接続およびクローズドループ・システムも含まれています。これは、有機排水が周囲の環境に逃げないことを保証するのに役立ちます。さらに、APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVDには、最適な性能とプロセス制御のための調整可能な発熱体もあります。その構造はエキソシェルプラテンを備えており、プロセスチャンバー全体に均一な温度分布を提供し、パフォーマンスの向上と長期間の生産を可能にします。要約すると、AMAT P5000 MARK-II CVD Reactorは、バリアフィルム、ハードコーティング、誘電体フィルムなどの繊細な蒸着およびプロセス用に設計された直感的で効果的なシステムです。マルチアプリケーション処理用の各種プロセスチャンバーや、最適な性能のための調整可能な加熱素子など、豊富な機能を備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVDはまた、温度センサとクローズドループシステムを使用して、環境への有機排水を低減する安全性を提供します。exo貝のプラテンとの構造はそれをCVDの適用のための究極の選択にする信頼できるプロセス結果および有効な生産の操業を保障します。