中古 AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ #293749250 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS MxP （AMAT MxP）は、精密プロセス用途向けに設計された原子炉です。独自の設計により、幅広いプロセスアプリケーションで高いパフォーマンス、柔軟性、制御性を実現します。それは比類のない正確さ、速度およびプロセスの再現性を提供するマイクロパターニングおよび処理システムです。APPLIED MATERIALS MxPリアクターは、半導体の結晶薄膜蒸着および開発プロセス用に設計された、革新的で生産性の高い、機能豊富なシステムです。複雑なプラズマエッチングと蒸着プロセスを精密に実行できるため、高度な電子デバイス製造に最適です。AMAT/APPLIED MATERIALS MxPには、最新のプロセス制御システムと最大4。7 m3の大容量のチャンバーが装備されています。0。3-6。8 mTorrのプロセス圧力で0。05°Cの優れた塩基温度均一性を有しています。また、先進的なガス配送システム、フロー制御システム、先進的なマテリアルハンドリング機能を備えています。AMAT MxPは、成膜プロセスの範囲を使用して、望ましい組成で薄膜を生成します。これには、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）、原子層蒸着（ALD）、有機分子ビーム蒸着（OMBD）、スパッタリング、低圧化学蒸着（LPCVD）が含まれます。アプライドマテリアルズMxPは、ドライエッチング、ウェットエッチング、イオンエッチング、イオンミリングなどのエッチングプロセスも使用しています。MxPは信頼性が高く、効果的であり、最高の精度と再現性で連続的かつバッチプロセスを実行することができます。プロセスレシピ、チャンバーパラメータ、およびその他の重要なパフォーマンス指標を最適化および監視するための高度なAPMコントローラと統合ソフトウェアが付属しています。AMAT/APPLIED MATERIALS MxPはまた、プロセス性能を向上させるための重要な温度および圧力フィードバックを提供します。全体として、AMAT MxPリアクターは、高度な精度とプロセス制御を必要とする高度な半導体デバイス製造設備に大きな付加価値をもたらします。複雑な成膜やエッチング処理を素早く、低コストで、高い再現性と精度で実行できる機能豊富なシステムです。