中古 AMAT / APPLIED MATERIALS MESA G5 #9311199 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS MESA G5プラズマエッチング炉は、さまざまな製造シナリオで起爆生成プラズマを使用するプロセスを正確に管理するために設計された高度な装置です。半導体デバイス製造において、エッチングはプラズマのエネルギーを利用して基板内に望ましい形状や特徴を作り出す重要なプロセスです。AMAT MESA G5は、誘導結合エッチング技術を利用して、プラズマ源からの基板材料への効果的なエネルギー移動を可能にします。高度な診断とパラメータの厳密な制御と相まって、原子炉は非常に高いレベルの精度に達します。ノズル内のチャンバー圧力は、圧力制御ループを介して制御され、エッチング処理が開始される直前に装置を減圧するための真空シーケンスを開始します。圧力制御は、精密なパワーレベルと温度調節とともに、ナノメートルスケールまでのエッチングの非常に高い精度を可能にします。APPLIED MATERIALS MESA G5は、エッチング工程の継続的な監視と制御を可能にする専用のイメージング技術も備えています。これにより、一貫した結果が保証され、歩留まりのばらつきが最小限に抑えられ、完全な精度と信頼性で実行されなければならないアプリケーション向けの堅牢なシステムとなります。この原子炉には高度なフィードバック制御ユニットが装備されており、プロセスが実行されると予想される結果と実際の結果を比較することによってエッチング処理を最適化するのに役立ちます。これにより、オペレータは所望の結果を達成するために迅速に大幅な調整を行うことができます。機械はまたプロセスを絶えず監視し、調節する圧力および温度センサーを利用します;例えば、高い材料のローディングの時に、センサーは過剰エッチングを防ぐために力レベルを自動的に調節します。最後に、MESA G5には、複数のエッチングレシピ、柔軟なチャンバークリーニング、複数のガスへの露出などのオプションが付属しています。この機能セットは、どの製造施設でも信頼性が高く汎用性の高いツールです。AMAT/APPLIED MATERIALS MESA G5は、高度な技術によりパラメータを高精度かつ厳密に制御する必要があるエッチングプロセスに最適です。
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