中古 AMAT / APPLIED MATERIALS H20 VDSII #293647380 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS H20 VDSIIは、半導体加工のための高性能で費用対効果の高い化学蒸着（CVD）装置です。この原子炉は、低温での薄膜の堆積と、汚染とガスの負荷を最小限に抑えるように設計されています。システムのコンポーネントには、プロセスチャンバに電気を供給する電源、真空ポンプ、リアクタント供給ユニット、プロセス排気が含まれます。電源はDC/ACコンバータで、500voltsで最大30ampsの電流を供給できます。真空ポンプは、それぞれ2。5e-7 torrと5e-7 torrのベースとソースの真空圧力を提供するターボ分子ポンプです。リアクタント供給機には精密流量制御バルブとポンプがあり、プロセス排気は反応物や粒子を原子炉から除去するマルチノズル拡散ツールです。AMAT H20 VDSIIは、直接および選択的なCVD、湿式酸化、窒化パッシベーションなど、さまざまなCVDプロセスを実行することができます。蒸着温度範囲は室温から850°Cまで広がり、プロセス条件に応じて6〜8ミクロン/分の蒸着速度が得られます。アセットは最大16gasラインをホスティングすることができ、幅広い材料の加工が可能です。この原子炉は、プロセスの再現性を最大限に高め、メンテナンスの必要性を最小限に抑えるように設計されています。ウェーハをロードステーションからリコンディショニングステーションに転送し、従来のプロセスからの粒子汚染を除去する自動ウェーハ再調整モデルを搭載しています。また、地上フォールトセンサーなど、人員や資産を保護するための多数の安全機能も備えています。APPLIED MATERIALTS H20 VDSIIの優れた設計により、幅広い基板において最大限の加工効率と均一性を実現します。エネルギー効率、ガスの積載量を最小限に抑え、幅広いプロセスウィンドウにより、半導体フィルムの堆積に最適なシステムです。この費用対効果の高いユニットは、研究開発や商業生産アプリケーションに適しています。