中古 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311195 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA
ID: 9311195
ヴィンテージ: 2010
Etcher Process: ETC 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALTS G5 MESA(金属エッチングおよび選択蒸着原子層)は、半導体製造に使用されるプラズマベースの原子炉の一種です。それは材料、特徴および基質の表面の金属の層を沈殿させ、パターン、エッチングし、そして情動化するのに多くの異なったプロセスを使用します。AMAT G5 MESAは、3つの広範な原則を使用して動作します。第一の原理はマルチモード動作であり、フォトリソグラフィ、エッチング、蒸着など、さまざまなウェハ製造プロセスに原子炉を使用することができます。第二の原理は、複数の金属化合物の原理であり、原子炉は製造ニーズに合わせた高品質の金属層を作成することができます。最後に、第3の原則は、原子炉で異なる材料を顧客の要求を満たすために使用することを可能にする強化された材料の互換性のことです。全体的な構造の面では、アプライドマテリアルズG5 MESAプラズマ炉は、それぞれ独自のプロセスチャンバー、真空ポンプ、ガス供給システム、およびガス制御システムを備えた3つのチャンバーで設計されています。化学物質の送達と反応は、シャッターベースのエッチングと蒸着制御を使用するプロセスチャンバーのシャッターレス技術によって調整されます。これにより、圧力やガスの流れなどのプロセスパラメータを変化させることで、プロセスを正確に調整することができます。G5 MESAのプロセスチャンバーには、原子炉の先進的なプラズマ源も収容されており、低温および低圧での動作が可能です。これにより、AMAT/APPLIED MATERIALTS G5 MESAは、材料の表面特性を損なうことなく、さまざまな種類の金属層を効果的に堆積およびエッチングすることが可能になります。さらに、AMAT G5 MESAには統合されたデジタルフラットベッドスキャナがあり、処理されるレイヤーを正確に監視および制御できます。Advanced Materials APPLIED MATERIALTS G5 MESAプラズマリアクターは、高品質の金属層の製造を可能にする汎用性の高いツールです。その先進的な技術と機能は、堅牢で正確で高性能なコンポーネントを作成しようとするメーカーにとって優れた選択肢です。低温動作と強化された材料互換性により、G5 MESAは多くの製造要件に最適なソリューションです。
まだレビューはありません