中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Front-End Metallization for Endura II #9294263 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II用フロントエンド金属化は、先進的で低コスト、高性能、高スループットの原子炉です。アプリケーション固有の集積回路（ASIC）や機器オンチップ（SoC）デバイスなどのフロントエンド集積回路（IC）デバイスの製造を可能にする完全自動化プラットフォームであり、薄膜メタライゼーションによりデバイス性能を大幅に向上させます。このマシンは、プロセス能力の強化、運用コストの削減、プロセス準備の改善とユーザーフレンドリーな自動化を組み合わせて、半導体デバイスの迅速で費用対効果の高い生産を可能にします。Endura IIは、ウェーハの暖房と冷却機能を強化した独自の分散アーキテクチャを備えています。このシステムには、高速加熱用のグラファイトサセプターと高速冷却用の強力な真空ユニットを備えた高性能マルチステーションガスボックスが含まれています。原子炉の分散アーキテクチャにより、最大2,700ワッファ時間および16ウェーハ平面の高スループットが可能です。このマシンは、加熱ハウジング、高真空圧、および急速加熱用のデュアルチャンバーリニアガスボックスを備えています。ガスボックスには、ガス用の入口、グラファイトサセプター、プラズマ発生器、高真空、ガス流量制御用の排気ポートが含まれています。AMAT Endura IIは、最適なプロセス互換性を実現する超高密度プラズマ（UHDP）を搭載しています。UHDPは、ウエハ表面を高効率で洗浄し、金属酸化物などの汚染物質をフロントエンドの金属化プロセスから除去する特殊ツールです。UHDPは、デバイス性能を向上させるための効率的なプラズマ強化化学蒸着（PE-CVD）を実現するために使用されています。Endura IIは、さまざまなモジュールのプログラム可能な同期を可能にする完全に自動化されたプロセス実行エンジンを備えています。この機能により、リアクターは、メタライゼーションプロセスの各ステップで、温度、圧力、ガスの流れなどのプロセスパラメータを正確に制御することができます。このソフトウェアには、モデルのパフォーマンスを監視および制御するための包括的な資産診断機能も組み込まれています。これにより、均一性の向上、スループットの向上、およびメタライゼーションの歩留まりの向上が保証されます。アプライドマテリアルズEndura IIは、高スループット、効率的なプロセス準備、および優れたプロセス制御を備えた薄膜メタライゼーションプロセスのための完全なソリューションを提供します。これらの機能とUHDPと自動化されたプロセス制御を組み合わせることで、より高い性能と歩留まりを備えた半導体デバイスのコスト効率の高い製造が可能になります。