中古 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9240194 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAは、半導体産業における薄膜トランジスタ（TFT）用途の成膜用に設計された高品質のクローズドループ型化学蒸着（CVD）炉です。AMAT ENDURAリアクターは、均一な成膜と成膜プロセスに対する温度感度を確保するために、厳密に制御された熱環境を可能にするデュアルゾーン成膜チャンバーを使用しています。アプライドマテリアルズENDURAリアクターは、優れたデバイス性能を維持しながら、大きなアクティブ領域にわたって優れたフィルム均一性を提供するように設計されています。ENDURAリアクターは、単純化された機械部品で設計されており、沈着時に最適な基板交換、ガス供給、均一性を提供します。原子炉内にはガスマニホールドとバルブがあり、基板への正確で正確なガス供給を可能にします。デュアルゾーンチャンバーにより、ウェーハ全体で個別に温度勾配を制御することができ、プロセス制御と均一な成膜が可能です。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAリアクターには、基板交換時の熱衝撃を低減する高効率の磁気冷却装置も内蔵しています。AMAT ENDURAリアクターは、フィルム性能のバリエーションを最小限に抑え、安定した成膜を提供します。また、非常に導電性の高い材料プロファイルと複雑な材料プロファイルの両方を優れた精度で堆積するように設計されています。APPLIED MATERIALS ENDURAリアクターの優れた均一性により、超級ロジック、アクティブマトリックスLCD、高速ロジックドライバなどのアプリケーションに最適です。ENDURAリアクターは、アモルファスシリコン、ポリシリコン、SiGe、 SnO2など様々な材料を堆積することができる、非常に有能で汎用性の高いCVDシステムです。このユニットはリモートコントロールボックスを備えており、原子炉の監視と操作を容易にすることができます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAリアクターは、密接に結合したガス供給機で熱制御を提供し、フィルム性能のバリエーションを最小限に抑えた高い歩留まりを可能にします。AMAT ENDURAリアクターは信頼性が高く、使いやすく、費用対効果が高いです。その優れた均一性、精度、精度により、半導体業界の幅広いデバイス用途に最適です。APPLIED MATERIALTS ENDURAリアクターは、信頼性の高い、費用対効果の高い蒸着能力と最高の性能を提供し、高品質で信頼性の高い蒸着システムを探している半導体業界の人々のための優れた選択肢です。