中古 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198492 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALIES ENDURAは、半導体の要求が厳しい蒸着要件のために設計されたコンピュータ制御、高性能の化学蒸着（CVD）炉です。AMAT ENDURAは、前世代のシステムと比較して、歩留まり率とデバイス性能が大幅に向上したデバイスを製造することができます。APPLIED MATERIALS ENDURAは、3D NANDや磁気記録媒体、MEMS（マイクロエレクトロメカニカルシステム）などの大量製造（HVM）環境における成膜のための業界をリードするプラットフォームです。ENDURAは、高度なハードウェア、ソフトウェア、マテリアル機能を備え、ターゲットの電子、光学、機械特性をデバイス層に迅速かつ正確にエンコードし、パフォーマンスを向上させることができます。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAは、業界初の3D成膜システムであり、欠陥の少ないスループットを向上させる生産性の向上とプロセス制御機能を提供します。これは、比類のない化学配送速度のためのフルフラグメント、自動化されたソース配送、ならびにより正確なプロセス制御のための現場のエンドポイント検出システムを備えています。高度なモデリング技術とリアルタイムプロセスフィードバックを使用して、AMAT ENDURAは、レイヤードウェル/オーバーラップの均一性、蒸着速度、およびその他の重要なパラメータの蒸着プロセスを最適化できます。アプライドマテリアルズENDURAは、特定のHVM要件を満たすように設計された「プラットフォーム」または「MO」と呼ばれる3つのユニークな構成で提供されています。ENDURA 5000は3D NANDやDRAMなどの大容量デバイスに最適な性能を発揮しますが、AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 3000はモバイルDRAMやAMAT ENDURA 1000などのメモリ用に設計されています。APPLIED MATERIALS ENDURAは、HVM環境における半導体成膜の進化するニーズに適応できる堅牢なプラットフォームとして設計されています。ENDURAの高度な制御および監視システムは、お客様がリアルタイムでプロセスパラメータを追跡することができ、最適な結果を得るための設定の迅速な調整とフェイルセーフなパフォーマンスのためのプロセス制御の最適化を可能にします。また、高度な制御および監視システムにより、ダウンタイムを最小限に抑えながら問題を迅速に診断、トラブルシューティング、解決することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAの精密なチャンバー化学およびプロセス制御機能により、新しいプロセスレシピを迅速に開発し、レシピを最適化してデバイス性能を向上させます。