中古 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9115932 を販売中
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販売された
ID: 9115932
ウェーハサイズ: 8"
PCVD System, 8"
Front panel type: Norrow
SMIF: No
SBC Controller: V440
Ion gauges: Nude
Buffer robot: HP
Transfer robot: HP
Blade material: STD
Load lock type: Narrow body
Index handler type: Manual
Loadlock vents type: STD
PVD Chamber details:
Chamber #1
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #2
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #3
Body type: WIDE
Source type: 12.9 G3
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-21940
MFC:
Chamber #1
MFC Type: AERE
Gas: AR
Size: 100, 50
Chamber #2
MFC Type: STEC4400
Gas: N2
Size: 100, 200
Chamber #3
MFC Type: STEC
Gas: N2
Size: 200
Chamber #3
MFC Type: AERA
Gas: N2
Size: 50
Chamber D
MFC Type: SEC-V100
Gas: N2
Size: 200
NESLAB II Chiller
(2) Cyro 9600 Compressors
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAは、半導体用に特化した薄型コンフォーマルコーティング成膜用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。この装置は、中空陰極マグネトロンスパッタリング（HCMS）や物理蒸着（PVD）などの他の用途にも使用できます。AMAT ENDURAは、プラズマ強化CVD （PE-CVD）プロセスを使用したフルサイズCVD炉です。PE-CVDは、従来のバッチCVDプロセスよりも大幅に薄く、よりコンフォーマルコーティングの堆積物を可能にします。このシステムは水平原子炉室を備えており、限られた表面積で最大のスループットを可能にします。さらに、チャンバーの洗浄と排気ユニットと大きなプロセスウィンドウは、幅広い前駆ガスとの使用を可能にします。APPLIED MATERIALS ENDURAのエンドポイント検出機は、コーティング厚さ測定の信頼性の高い精度を提供するように設計されています。ENDURAリアクター専用に設計された自動化されたプロセスコントローラは、正確なプロセス制御を提供し、各基板の均一なコーティングを保証します。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAリアクターは、特定のプロセスアプリケーション用にツールをカスタマイズするために、ガス供給システム、水冷表面、および自動ローディングシステムなどのさまざまなコンポーネントでさらに構成することができます。たとえば、キャリアウェーハの転送と取り扱い資産、真空モデル、自動ウェーハマッピング装置などの一般的なコンポーネントがあります。AMATは、適切なシステム運用と最適化を確保するための包括的なサービス、予防メンテナンスプログラム、スペアパーツ、プロセストレーニングを提供します。これらのサービスに加えて、高度なソフトウェアとハードウェアのアップグレードは、ユニットの寿命を大幅に延ばすのに役立ちます。AMAT ENDURAリアクターは半導体産業の大量生産や研究開発用途に最適です。操作が容易で、薄膜コーティングを制御するための正確で信頼性の高い正確な性能を提供します。
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