中古 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #117307 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor（別名AMAT ENDURA Reactor）は、半導体産業のために設計された大規模な産業プロセス機器です。この原子炉は、化学蒸着（CVD）プロセスに使用され、通常、基板上にシリコン、ダイヤモンド様炭素（DLC）、窒化物層の薄膜層を堆積させるために使用されます。応用材料ENDURAリアクターは、薄膜層の一貫した信頼性の高い堆積に必要なプロセスパラメータを監視および制御することができる高温高圧CVDリアクターです。加熱チャンバーと加熱サセプターを装備し、幅広いガスやリアクタント材料に対応しています。また、精密な蒸着温度制御、圧力検出および制御、流量制御など、さまざまな高度なプロセス制御を備えています。ENDURA Reactorは、電子回路、マイクロ構造、MEMS部品、およびその他のアプリケーションの製造のための半導体業界で広く使用されています。それは層材料の急速で、有効な沈殿のために設計され、非常に精密で、反復可能な沈殿のための優秀な温度の均等性そして再現性を特色にします。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAリアクターは、プロセス時間を短縮し、エラーを最小限に抑え、スループットを最大化するように設計されています。リアクターは、プロセスチャンバーとコントローラの2つの主要コンポーネントで構成されています。プロセス部屋は水晶、アルミニウムまたはステンレス鋼から成り、発熱体、サセプターおよびすべての必要なセンサーおよび弁を収容します。堆積プロセスが実際に行われる領域でもあります。コントローラは、原子炉を調整し、プロセスパラメータを最適化するために必要なソフトウェアとハードウェアを含む高度なコンピュータ化システムです。AMAT ENDURA Reactorは、蒸着プロセス全体を完全に制御するプロセスエンジニアとオペレータを提供します。二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ダイヤモンドのような炭素など、幅広い素材で使用できます。原子炉はまた、非常に均一な温度分布、精密な圧力制御、および非常に低い不純物レベルを持っています。APPLIED MATERIALS ENDURA Reactorは、プロセス制御機能に加えて、迅速かつ一貫した蒸着速度を提供するように設計されています。また、耐摩耗性部品を備えており、よりクリーンな蒸着環境のためにノイズや粒子レベルを低減する機能が組み込まれています。ENDURA Reactorは半導体産業のために設計された先進的な産業プロセス装置です。この原子炉はCVDプロセスに使用され、基板上にシリコン、ダイヤモンド状の炭素、窒化物の薄膜層を堆積するために使用することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURAは、精密なプロセス制御と迅速な蒸着速度、およびよりクリーンな蒸着環境のための低ノイズおよび粒子レベルを提供します。