中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura SL #293722942 を販売中
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ID: 293722942
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2001
W-CVD System, 12"
OHT WIP Delivery
(2) Load ports
Load port type: (25) Wafer FOUPs
Operator access switch
E84 Sensors and cables
KEYENCE with BCR
(4) Colours configurable light tower
(2) Heat Exchangers
NESLAB Chiller / Steelhead-1
UNISEM UN2002APG Gas scrubber
Chamber position 1, 4, C and D: Tungsten
Pumps:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Position 1, 4, C, D: EBARA A150 Type
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL Reactorは、高性能で高品質の化学蒸着（CVD）装置です。このシステムは、半導体デバイス製造のための業界をリードする大気圧、シングルウェーハCVDプロセス用に設計されています。AMAT Endura SL Reactorは、最新の3D IC、 LED、 MEMSを可能にする優れた均一なフィルムを備えた優れたコンフォーマル成膜を提供します。APPLIED MATERIALS Endura SLリアクターの中核は、その優れたガス制御です。エネルギー消費量が低く、スループットが高い革新的な設計により、生産性と効率が向上します。Endura SL Reactorは、一貫したフィルムの成膜を可能にする優れた短期均一性を備えた動的フロー制御を提供します。そのCVDチャンバは、1つのチャンバで複数のプロセスレシピを最適化する機能を備えたマルチゾーン制御可能に設計されています。革新的なロードロックユニット設計により、精密な低負荷ウェーハ処理が可能です。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL Reactorは、900°Cまでの低温蒸着からフルレンジの温度制御を提供します。この温度柔軟性により、PECVD、 PEALD、 ALDなどの幅広いCVDプロセスが可能になります。この原子炉は、プロセス制御の問題を迅速に検出および修正するためのin-situおよびex-situ診断も提供しています。そのソフトウェアスイートは、CVDプロセス全体を自動化して制御と再現性を向上させます。さらに、AMAT Endura SL Reactorは、独自の統合されたクローズドループ制御アーキテクチャにより、優れたプロセス制御安定性を誇っています。温度、湿度、流量、圧力などのプロセス条件をドリフトなしで長時間にわたって維持できます。これにより、CVDプロセスが常に正確に制御されます。アプライドマテリアルズEndura SL Reactorは、幅広い自動安全機能も提供しています。これらは、プロセスが安全に動作し、人員、機器、および環境へのリスクを最小限に抑えていることを保証します。自動化された安全プロトコルは、圧力、流れ、温度などのパラメータを監視し、事前に確立されたしきい値を超えるとプロセスをシャットオフすることができます。全体として、Endura SL Reactorは半導体デバイス製造のための最も厳しい要件を満たすように設計された高性能CVDマシンです。優れたガス制御、フルレンジの温度制御、自動化された安全機能を備えたこのツールは、市場で最高品質の蒸着とプロセス性能を提供します。次世代のマイクロエレクトロニクスデバイス向けに、信頼性の高い再現可能なCVDプロセスを探している企業にとって理想的な選択肢です。
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