中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9315363 を販売中
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ID: 9315363
ウェーハサイズ: 12"
PVD System, 12"
Wafer type: Notch
3E Impulse AIN System
Chamber location / Option
Level 1 / Endura II
Level 2 / Emerging
Position 1 / Impulse ALN
Position 4 / Impulse ALN
Position A / Cool down
Position B / Cool down
Mainframe
Motion controller
Particle management package
Chamber cool down gas lines
Single wafer load locks: HT SWLL without DEGAS module
XP Robot with enhanced high temperature wrists
Metal robot blade
Rack
CTI-CRYOGENICS Cryo Pump
(2) Cryo compressors
Cryo compressor voltage: 400 V - 480 V
Cryo helium lines: 75 ft
Heat exchanger hose: 75 ft
MFC Type: GF 125
Factory interface:
Front end module
Platform application: CPI
Gen 4 with KVM server and user interface
UPS
HT SWLL With STD / Opera
OHT WIP Delivery
(2) SELOP 7 Load ports
Info pad position: A / B
Colored lights
(8) Lights load port operator interface
E99 Carrier reader: TIRIS With RF
Upper E84 Data logging sensors and cables
Operator access switch
Top air intake systems
(4) Colors light tower
Rack
System monitors:
Flat panel monitor, 19"
Keyboard
Cables: 15 ft with 6 ft effective
Remote flat panel monitor, 19"
Cables: 75 ft with 65 ft effective
Impulse: Position (1, 4)
Biasable wafer pedestal HV E-Chuck
Shutter
Baratron gauge size: 100 mTorr
RGA Valve manual
Turbo cryo pump with water trap
DEGAS RGA Valve manual
(4) EBARA AA70W Pumps
(2) ADIXEN A100L Pumps
Rough pump voltage: 208 V
Umbilical:
AC Rack to mainframe: 75 ft
AC Rack to HX: 75 ft
AC Rack to rough pump: 75 ft
Mainframe to equipment rack: 75 ft
Power supply: 10 kW, DC.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、幅広い電力およびプロセスプロジェクト用に設計された先進的なプラズマエッチング炉です。この原子炉は、深い異方性、方向性エッチング、堆積、酸化、および低温分解に最適です。このシステムは、最大4つの異なる蒸着材料を同時に堆積するために高真空蒸着を利用します。それは高度のガス配達および高度のプラズマ制御を使用します。AKT Endura IIは、1立方フィートあたり0。1〜5。5ミリグラムの真空レベルで動作するため、迅速かつ正確な蒸着プロセスを実行できます。AMAT Endura IIは、高出力アプリケーション向けに設計されており、最大10,000ワットの電力レベルで動作する機能を備えています。独立した電極傾斜を持ち、エッチング速度と均一性の角度依存制御を提供します。Endura IIはまた、粒子汚染を低減し、システムのメンテナンス要件を低減するための高度なスクラバーおよび濾過システムを備えています。アプライドマテリアルズEndura IIは、エッチング用の高密度で柔らかいプラズマを生成するためのデュアルインダクタコイルと、厚膜コーティングを堆積させるための高出力インダクタを使用しています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIはまた、高指向性エッチングを提供するために追加のコイルを適用する能力を持っています。AKT Endura IIは、低圧処理を可能にする非汚染水晶ノズルとチューブ構成を備えています。この設計により、クオーツフィルターを介して粒子状のガスを連続的に取り出すことにより、定期的にチャンバーをきれいにするシステムをシャットダウンする必要がなくなります。AMAT Endura IIの革新的な技術は、精密で再現性のあるプロセスを可能にし、エッチング、蒸着、酸化の優れた品質を提供します。また、100〜1600°Cの様々な温度をシミュレートすることができ、幅広いユニークなアプリケーションを可能にします。Endura IIは、高出力、再現可能なプロセス、および低温蒸着が必要なアプリケーションに最適です。様々な材料や基板を加工することができ、サイズ、複雑さ、および電力要件に基づいて、さまざまなレベルの複雑さで利用できます。
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