中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9315101 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、クリーンルーム環境のさまざまなプロセス用に設計されたライン半導体ウェーハ炉のトップです。化学蒸着（CVD）や原子層蒸着（ALD）など幅広い化学反応が可能で、高度なプロセス制御が可能です。AKT Endura IIは低圧低温装置で、ガスや化学蒸気の使用量を低減しながら、生産性、効率、品質を向上させることができます。AMAT Endura IIはステンレス製のプラットフォームと先進的なリアクタント配送システムを備えており、幅広いプロセスに最適なプラットフォームです。高度なコントローラーによって制御された独自の高性能ヒーティングシステムにより、高効率の混合と化学反応による正確な温度制御と高反応性ガスの組み合わせが可能です。また、使いやすいインターフェースを備えており、迅速なレシピ開発、編集、監視が可能です。この高度な制御により、より良い品質のCVDおよびALDプロセスが可能になります。アプライドマテリアルズEndura IIは、8インチから300mmまでの幅広いウェーハサイズに対応しており、さまざまな半導体プロジェクトに対応する汎用性の高いプラットフォームです。Endura IIは、セミバッチプロセスとバッチプロセスの両方で互換性と拡張性を考慮して設計されています。また、プロセス制御を改善するために、全体にわたって正確な圧力と温度プロファイルを確保するための反復自動校正機を備えています。このツールには、複数のウェーハを同時に処理するためのマルチスライス機能もあります。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、堅牢な生産チャンバーとマニホールド設計、および運転中のダウンタイムを最小限に抑えるための改良されたリアクタント配送システムを備えた、長寿命かつ低メンテナンス用に設計されています。また、統合されたプロセス監視機能を備えているため、オペレータは資産の進捗状況、パラメータ、パフォーマンスをリアルタイムで監視できます。統合されたチャンバー保持システムは、攻撃的な材料の存在下でもモデルの寿命を延ばすことを約束します。AKT Endura IIは、大規模で高スループットの生産環境での使用を想定して設計されており、研究開発と工業規模の生産の両方に理想的な装置となっています。システムの高度な制御、統合されたプロセス監視、ガス使用量の低減、ダウンタイムの削減により、あらゆる種類のプロジェクトにとって魅力的なツールとなります。