中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9225567 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、産業用、半導体グレードの処理用に特別に設計された最先端のプラズマ強化化学蒸着（PECVD）炉です。この原子炉は、広範囲の膜厚で高度な絶縁および導電性材料の非常に均一な堆積を可能にします。独自のオープンリアクタプラットフォームにより、AKT Endura IIは優れた温度制御、正確なガス流量および圧力制御、および強力なプロセス監視機能を提供します。AMAT Endura IIは、特定の顧客アプリケーションに適合した高品質の堆積のためのプラットフォームを提供します。その効率的なプラズマ源オプションは、低消費電力と急速なランプアップのために設計されています。さらに、お客様のプロセスパラメータに簡単に調整可能な高度なガス供給システムは、PECVDの複雑さを簡素化し、CVDコーティングの均一性を確保するのに役立ちます。Endura IIの垂直ホットウォールチャンバーは、フィルムの温度均一性と均一な蒸着を向上させます。その上および底の電極は温度調整に最適の性能のために表面の温度のプロフィールを合わせるために独自にプログラムすることができる使用することができます。さらに、マルチゾーン冷却プラットフォームにより、ウェハ温度分布の均質性が保証されます。アプライドマテリアルズEndura IIは、高い歩留まりと均一性のための処理レジームの再現性を可能にする使いやすいプロセスレシピを提供します。内蔵のEndura/Applied Process Control Softwareは、プロセスのセットアップと最適化を迅速かつ容易に行うことができ、安定した再現性のあるパフォーマンスを保証します。このソフトウェアは、プロセス結果を迅速にリアルタイムで最適化するための事前調整モジュールや、低レベルの不純物濃度を満たすLow Vacuum Etch監視モジュールなど、いくつかのモジュールで構成されています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、信頼性の高い長期運用と製品価値を最大限に高めるための堅牢な製造基準で作られています。その信頼性と競争力は、半導体業界にも健全な貢献をしています。この信頼性により、市場で利用可能な主要なCVD炉の1つになります。