中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9205044 を販売中
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ID: 9205044
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
PVD System, 12"
(3) Scanners
(3) Racks
CVCF Rack
(3) Monitor racks
Front monitor rack
System component information:
Factory information:
FFU Type: Thin type
(3) POD
FLEX 4 Controller long type
Light curtain
Signal tower: 3 Colors
Robot type: YASAKAWA AT Robot
Pass through option: (2) Slots
Degas chamber information:
(2) Chambers
Chamber type: Standard
Cryo pump: IS-8F
Chamber A&B information:
Chamber A: Pass
Chamber B: Cool
Lid type: Clear
Buffer & transfer information:
Robot type: XP
RGA Option: No
Cryo pump: IS-8F
LCF Amplifire:
(14) Buffer
(12) Transfer
Chamber 1:
Process type: ALPS Co
Adapter: 0040-62882
Spacing: 225 mm
Weldment type: Old type
MFC:
UFC 8565C-AR 150 sccm
UFC 8565C-AR 20 sccm, HTR Gas
Chamber 2:
Process type: Ni-10at%Pt
Adapter: 0041-02309
Weldment type: Old type
MFC:
UFC 8565C-AR 100 sccm
UFC 8565C-AR 20 sccm, HTR Gas
Chamber 3:
Process type: TTN
Magnet: DURA
Adapter: 0040-80367
MFC:
UFC 8565C-AR 100 sccm, Process
UFC 8565C-AR 20 sccm, HTR Gas
UFC 8565C-N2 200 sccm, Process
Chamber 4:
Process type: SIP TiN
Adapter:
0040-62877 Bottom, SIP TTN
0040-76943 Upper, SIP TTN(3L)
MFC:
UFC 8565C-AR 50 sccm, Process
UFC 8565C-AR 20 sccm, HTR Gas
UFC 8565C-N2 100 sccm, Process
Chamber 1 / 2 / 3 / 4:
Controller tower type: CCT
Heater type: ESC
Gate valve type: Old type 3 pos
Cryo pump: IS-BF
Shutter option
Sub rack:
Load center rack
(3) Equipment racks
(2) Heater exchangers
Heater exchanger type: SMC Thermo chiller INR-498012D-X007
2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIリアクターは、高度なリソグラフィおよび半導体アプリケーションを可能にするように設計された先端技術、高温PCVD処理装置です。AKT Endura IIリアクターは、極薄層のコーティング、堆積、拡散が可能な独自の高温PCVDプロセスに基づいています。システムは高いスループットを提供するために高出力の陰極を含んでいます；精密なプロセス制御のための多次元可変周波数変調器；ウェーハブランキングと高精度の窒素/酸素パージ管理のための大きなターゲットエリア。そして正確なウェーハ厚さ制御のためのコンピュータ制御の上昇オフの単位。また、高温PCVDプロセスと組み合わせることで、基板膜の接着性を高める強力なプラズマ処理も可能です。このツールは、薄い層の堆積や金属の拡散など、さまざまな用途に使用できるように、大きな温度範囲を持っています。AMAT Endura IIリアクターはまた、優れたウェハブランキング能力を提供し、そのプロセス能力は、最小限の人間の介入で最高レベルの精度を満たすことができるようなものです。Endura IIリアクターは、最大のスループットと精度を確保するために、薄膜蒸着プロセスの正確な制御を可能にする強力なガス供給アセットを備えています。このガスフィードモデルはヒートアップモードを備えており、必要に応じて機器を異なる温度で動作させることができます。APPLIED MATERIALS Endura IIリアクターの特定のプロセス機能に加えて、高度なデータロギングと収集機能も備えています。このシステムは、ミリ秒精度で複雑なデータポイントをプロットすることができます。さらに、PCベースのソフトウェアアプリケーションAKTと連携して、プロセスのさらなるカスタマイズを可能にするように設計されています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIリアクターは、最も要求の厳しいアプリケーションのニーズを満たすために信頼性の高い、正確な性能を提供する高度な機器の十分に丸みを帯びた部分です。AKT Endura IIリアクターは、強力な陰極、ガスの流れと温度を制御する機能、および広範なデータロギングと収集機能のおかげで、あらゆるPCVD処理アプリケーションに最適です。
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