中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9198255 を販売中
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販売された
ID: 9198255
ヴィンテージ: 2009
PVD System
Process:
W(DC)
TiN(DC)
Si(RF)
Configuration:
Process tool:
FI
(3) Load ports
Endura main frame
Load lock A/B(LLA/LLB)
Degas chamber(CHE)
Versa Ti/TiN chamber (CH1)
Versa W/WN chamber (CH2)
RF PVD Si chamber (CH4)
Sub tools:
Primary AC box / Rack
Power rack:
Power supply
(3) Controllers
(2) Cryo compressors
Cooling chiller (Heat exchanger)
Dry pump (EBARA, 80WN x2, 20N x1)
Sub tools:
Qty / Make / Model / Part number / Description / CH
(6) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS 8F / / Cryopump / Buf/Tr/E/1/2/4
(2) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS-1000 / 0190-19395 / Cryocompressor / -
(2) / EBARA / ESR 80WN / / Drypump / System/LL
(1) / EBARA / ESR 20N / / Drypump / CHE
(1) / DAIKIN / - / 0190-25358 (Rev02) / Chiller / -
(1) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle / 0190-34646W / Power supply 20kW DC / CH1
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-26736101 / Power supply 10kW DC / CH2
(1) / ENI / GHW-12Z / 0190-25529W / Power supply / CH2
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-32405 / Power supply 5kW DC / CH4
(1) / COMDEL / CB3500 / 0190-38882 / Power supply 3500W RF / CH4
(1) / ASSEMBLY / HY-11 / 0010-25739 / Magnet 300MM DS-TTN / CH1
(1) / - / - / 0010-46871 / Magnet assy, 50M,LRW,300MM PVD / CH2
(1) / ASSEMBLY / Magnet / 0010-48649 / Magnet, 300MM, RF PVD / CH4
Parts list:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 3690-01847 / SCR CAP / Versa TTN
(1) / 0045-00250 / Matched pair / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-06870 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-53619 (Rev03) / Shield, 1-piece / RF Si
(1) / 0200-07582 (Rev05) / Ring, deposition / RF Si
(1) / 0021-54932 (Rev04) / Ring, cover / RF Si
(1) / 0021-26896 (Rev03) / Disk shutter / RF Si
(1) / 0020-07884 (Rev02) / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0041-25800 (Rev02) / Ring spacer / RF Si
Target:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / D0190-23987003 / END TI16.008-1T-0P / Versa TTN
(1) / NMJ-14040801-HL4 / END-W16411-0309T-DB / Versa WWN
(1) / D0190-3376702 / - / RF Si
Endura spare parts:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-05896 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-87836 (Rev2) / Straight shield extended 190mm spacing / RF Si
(1) / 0200-08030 / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0021-80310 / Cover ring / RF Si
(1) / 0200-12296 / Depo ring / RF Si
(2) / 0021-26896 / Shutter disk / RF Si
(1) / 0041-29007 / Spacer ring / RF Si
(6) / 3690-01929 / SCR CAP SKT HD / RF Si
(6) / 3690-02288 / SCR CAP SKT HD / RF Si
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、カスタム複合炉エンジニアリングをまったく新しいレベルに引き上げます。この汎用性と強力なプラットフォームは、さまざまなプロセスに対応することができ、お客様はリソースを最適化し、生産性を最大化することができます。AKT Endura IIは、プロセスの複雑さ、品質、安全性に優れた、今日の工場に最適な製造システムを提供します。AMAT Endura IIは、競争から際立っているいくつかの機能を誇っています。シールドチャンバー、真空源、真空ポンプ、温度センサ、熱電対、プロセスガスライン、ガスバルブ、コントローラなどの標準部品を備えています。さらに、このプラットフォームでは、高度なプロセスのユニークなニーズに対応するために構成をカスタマイズすることができます。さらに、清潔度、汚染対策、熱伝達の分野で業界基準の高いEndura IIを満たしています。この高度な原子炉は、半導体、アニーリング、リフロー、および誘電性コーティングプロセスの多くの用途に最適です。半導体プロセスに関しては、デバイス構造形成に不可欠な条件を確立することに優れています。また、デバイスの最適化と歩留まり向上にも長けています。さらに、幅広い加工可能な材料とオプションを備えたAMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、基板の均質性、電気特性、およびその他のプロセス要件を最適化するのに役立ちます。AKT Endura IIもアニーリングプロセスに優れています。これは、機械全体に優れた均一性を提供する特別な加熱プロファイルを作成する効率的な方法で設計されています。これは、一貫した電気特性と高い収率を作成するのに役立ちます。さらに、AMAT Endura IIは、リフローの結果を向上させ、炉の要素の信頼性と滑らかな加熱を提供するのに有益です。Endura IIは、優れた誘電体コーティング機能も備えています。高い精度と精度で設計されており、基板表面の正確かつ再現性の高いコーティングが可能です。また、過剰なフィルムや粒子の汚染を避けながら、表面拡散や利用に最適な条件を作り出すことにも長けています。APPLIED MATERIALS Endura IIは、多種多様なプロセスを処理し、信頼性の高い再現性のある結果をもたらすことができる優れた反応器ソリューションです。これは、今日の高度なプロセスに理想的に構成されており、業界をリードする清浄度、汚染制御、および熱伝達を提供することができます。これらの特徴から、AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIが今日の多くの半導体メーカーにとって選択肢のある原子炉である理由は明らかです。
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