中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9167151 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIは、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）を促進します。この原子炉は、エネルギー効率に重点を置いた他の薄膜技術と同様に、パーソナル電子デバイス用の半導体チップの製造に特に使用されています。このデバイスは、最大5ナノメートル/分の高い蒸着速度を保証するために、Hextronプラズマ源を備えたデュアル誘導コイルを備えています。高品質のホットウォールを備えた大きなチャンバーを備えており、気化リアクタントに最適な温度環境を提供します。2つのプロセスチャンバーは、低圧、低温のCVD環境を提供します。AKT Endura IIは、マイクロ波動コントローラを備えた低メンテナンスのリアクタを備えており、他のモデルよりも低消費電力です。コントローラは、異なる生産速度に対して最適な性能条件を監視および維持します。原子炉はまた、時間の経過とともに生産条件における均一性と再現性を提供します。活性表面改質とプラズマ分散装置は均一で均一な表面コーティングを保証し、水平検出器は高い反射面で均一なカバレッジを保証します。AMAT Endura IIリアクターは安全性を考慮して設計されており、チャンバー内の有毒ガスの量を制限する統合安全システムを備えています。また、セラミックシールされた真空チャンバーに電気加圧ユニットを備え、反応ガスの環境への放出を防ぎます。さらに、ガス、真空、圧力、および水システムのネットワークにより、生産環境の安全性が向上します。Endura IIは、温度ベースの最適化とin-situモニタリング、基板の均一性と一貫性の制御を強化し、さまざまなアプリケーションのニーズに対応するように設計されています。このデバイスは、インストールと操作が簡単で、専門からより一般的な生産プロセスまで、さまざまな技術に最適です。高度な制御装置により、プロセスパラメータの自動チューニングが可能になり、再現可能な生産のためのオペレータ介入の必要性が低減されます。全体として、アプライドマテリアルズEndura IIは、高効率、費用対効果、信頼性、安全性の高いプラズマ強化化学蒸着炉です。様々な薄膜技術による小規模装置の製造に最適な環境を提供し、高い蒸着速度と生産条件の均一性を確保します。