中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293822584 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II Reactorは、高密度デバイス技術用に設計された産業用エッチングおよび成膜装置です。半導体・マイクロエレクトロニクス製造のエッチング・蒸着処理が可能です。AKT Endura IIは、真空チャンバー、反応チャンバー、メインチャンバー、真空排気、制御ユニット、各種オプションコンポーネントからなるマルチチャンバーツールです。AMAT Endura IIは最大4つのプロセスチャンバーを備えており、プロセスの柔軟性を高めます。PECVD、フォトレジスト除去、ウェットエッチング、RIE（リアクティブイオンエッチング）、リアクティブスパッタリング、リフトオフエッチングなど、さまざまな成膜およびエッチング処理が可能です。さらに、最大4つの主室前庭、3つの製品、および1つのシングルエンド発電機をサポートできます。APPLIED MATERIALS Endura IIのメインプロセスチャンバーは、プロセスガス、ガス源、液体源を使用するように設計されています。これは、製造技術のスケーリングと要件に基づいて厳しい要件を満たすように設計されています。自動ガススイッチング、不活性および非反応性ガス制御、および自動ガスミキシングマシンなど、多くの機能を備えています。さらに、ろ過及び温度制御のための温度および圧力プローブおよび電極の広い範囲が装備されています。Endura IIの反応室には2つの反応ポートがあり、最大4つの基板をサポートできます。高精度な圧力・温度制御が可能で、幅広い基板や各種ガス流量条件に対応できます。また、自動基板ローディングとアンローディングツール、および迅速なサイクルタイム制御を備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura IIには、試料表面の分析に使用される高度な光学アセットであるSmartViewモノクロメータなどのさまざまなオプションコンポーネントも装備できます。また、高周波RF発電機であるEchoflexジェネレータを使用することで、追加のプロセス機能を提供します。AKT Endura IIは、高度なエッチングおよび成膜ニーズに最適なモデルで、小型ウェハ加工から大規模生産まで幅広い機能を提供します。幅広い機能とオプションにより、さまざまな半導体、ディスプレイ、マイクロエレクトロニクス製造プロセスに適しています。