中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293616611 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II Reactorは、さまざまなアプリケーションでのリソグラフィ、エッチング、および蒸着プロセス用に設計された高度な高性能製造プラットフォームです。高品質な生産能力と、プロセス制御の自動化、現場監視などの機能を備え、マルチスタックの大量生産用に設計されています。AMAT Endura IIは、スループット、デバイスサイズ、およびオプトエレクトロニクス性能の大幅な進歩を提供します。プロセスレシピの開発と再現性を正確かつ信頼性の高い制御を保証するために、自動化された制御モジュールが装備されています。Advanced Photoresist Processing （APR）モジュールを使用すると、サブナノメートルのリソグラフィが可能になり、サブストレートワーピングモニタ（SWM）モジュールを使用すると、大きなウェハの温度とひずみを正確に制御できます。さらに、Enhanced In-Situ Monitoring （EIS）システムは、高度なin-situ計測データを提供します。アプライドマテリアルズEndura IIは、先進的な真空クラスタツールアーキテクチャを中心に構築されています。この構成は、最大4つのプロセスモジュールで構成されており、それぞれに複数のチャンバーが装備されています。これにより、スループットが向上し、メンテナンスコストが削減されますが、高品質の結果が得られます。システムの主要なチャンバーには、無線周波数（RF）源、電子サイクロトロン共鳴（ECR）および誘導結合プラズマ（ICP）源、ナノ秒パルスなど、さまざまなプラズマ源が装備されています。プラズマ源は、コーティング、エッチング、洗浄プロセスを適用して、複雑で高度な構造を作成することができます。Endura IIはまた、容量性フィルタとリニアアンプを内蔵した先進的な電源設計を誇り、高電圧および低リップル電源を提供します。これにより、イオンビームエネルギーと線量率を正確に制御し、非均一性、再現性、歩留まりを改善できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura IIは、プロセスレシピ、複雑な前処理と後処理のデータに基づくレシピ、オフラインで実行するためのレシピをプログラミングする機能を可能にする柔軟性のあるスイートで、ユーザーの利便性を最大限に高めるように設計されています。プロセスデータ解析ツールセットは、徹底した後処理の分析を可能にし、ハードウェア制御スイートは特定のレシピのカスタマイズと材料制御を可能にします。このシステムには内蔵のレシピデータベースもあり、ユーザーはレシピを保存してリコールし、さまざまなプロセスで一貫した結果を得ることができます。全体として、AMAT Endura IIは、要求の厳しいエッチング、リソグラフィ、および蒸着プロセス用に設計された、強力で高度な製造プラットフォームです。高度なプロセス制御、現場での監視機能、自動化されたレシピ制御により、高品質の結果と改善されたデバイスとパターンサイズを提供します。柔軟なスイートとハードウェア制御により、プロセスを最適化して精度とスループットを向上させることもできます。