中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP #9085295 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP
ID: 9085295
ヴィンテージ: 1996
PVD System Loadlock: narrow body 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HPは、多くの先進的なマイクロエレクトロニクス機器の信頼性の高いウェーハ製造を保証するために使用されるツールです。エッチング/アッシュチャンバーと蒸着チャンバーの2つの特徴で構成されたアーキテクチャであり、どちらも高度なプラズマ源とチャンバー設計を利用しています。このプラズマ源は、フッ素、水素、窒素などの反応性ガスを生成し、半導体材料と反応して化学反応を起こすのに役立ちます。これは最終的に効率的な堆積とエッチング処理につながります。AMAT Endura HPのチャンバー設計には磁気補助コイルが含まれており、反応室全体で一貫した、繰り返し可能で、プラズマの均一性さえも可能です。また、負荷ロック機能を備えており、リアクター外の環境にさらされることなく、ウェーハをロードおよびアンロードすることができます。この機能は、複数のバッチ製造プロセスを通じてプロセスの安定性と再現性を維持するのに役立ちます。応用材料Endura HPのエッチング/アッシュチャンバーは、二酸化ケイ素や窒化ケイ素などの様々な材料をエッチングおよびパッシベートするために使用できます。基板はまた、プロセスの品質を向上させるために、さまざまな温度、圧力、および他のパラメーターに服従することができます。蒸着チャンバーは、金属や誘電体などの材料を堆積するために使用することができ、高精度とプロセスの再現性を満たすように設計されています。この原子炉のプロセス制御技術は、温度、圧力、電圧などのパラメータを制御し、複数のバッチで再現可能で最適な結果を保証できる高度な制御システムソフトウェアに基づいています。これには、プロセスの信頼性をさらに高めるロードロックおよび同期機能が含まれます。Endura HPリアクターは、複数の危険ガスとも互換性があり、プロセス監視とメンテナンスのためのリモートユーザーアクセスを可能にします。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HPは、低温から高温まで幅広いレシピで使用できます。炉の部屋は30-500°Cから作動でき、均一な温度配分および適切な制御を提供する多数の部品が装備されています。全体として、AMAT Endura HPリアクターは、汎用性の高い設計と高度なプロセス制御技術により、多くのマイクロエレクトロニクス製造アプリケーションに最適です。信頼性と再現性に優れたウェーハ製造プロセスと、長期的な信頼性と高性能を提供します。
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