中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9373105 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactorは、半導体およびオプトエレクトロニクス技術のための高品質の薄膜微細構造を作成するために設計された高精度の蒸着装置です。このシステムは、化学蒸着（CVD）、原子層蒸着（ALD）、物理蒸着（PVD）プロセスを利用して、超薄膜層を基板に堆積させます。AKT Endura 5500は高度にカスタマイズ可能で、特定のニーズに合わせたモジュール設計とカスタマイズが可能です。AMAT ENDURA 5500は、あらゆるタイプのプリカーソル化学に対応したガラスヒーターチューブを採用しています。チューブは950°Cまで加熱でき、広い温度範囲で特定の条件下で薄膜層を作成できます。完全に自動化されたサンプルハンドリングのためのデュアルシャッター構成を備えており、高速ロードとアンロード時間があります。また、薄膜の均一性と厚さを最適化した高性能の自動シャワーヘッドシャッターを搭載しています。AMAT Endura 5500は、金属CVDやALDなどの用途にセラミック絶縁材ライナーを使用しています。また、特殊な堆積プロセスのためのさまざまな材料の範囲内でライナーを組み込むことができます。また、成膜ごとに蒸着圧力とチャンバー構成を調整する完全自動化された圧力およびコンポジションコントロールツールを備えています。これにより、プロセス全体にわたって最適な条件が維持されます。プロセス検証とデータ収集のために、AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500には、水晶マイクロバランス（QCM）、楕円測定、光学および電気試験などの自動エンドポイント検出システムが組み込まれています。この原子炉はまた、RFプラズマと電気障壁を利用して、薄膜の均一で再現性のある堆積を可能にします。ENDURA 5500は、マルチゾーンチャンバー温度制御、可変電力プロセスガス位置決め、パワーランピングなど、幅広いプロセス制御および監視機能を提供します。応用材料ENDURA 5500は、フィルムの厚さと均一性の両方を監視および制御する能力を可能にする高度な均一性制御を提供します。また、2D/3Dでin-situ deposition uniformity mapping機能を提供することもできます。さらに、マルチゾーンの温度制御アセットにより、フィルムの蒸着速度を制御して、プロセスが設定された仕様内で動作することを保証できます。全体的に、Endura 5500リアクターは、薄膜微細構造の高精度成膜を提供するための優れた選択肢です。ユーザーフレンドリーなインターフェイス、プロセスをカスタマイズするためのさまざまなオプション、および幅広いプロセス監視および制御機能を提供します。その汎用性のため、このモデルは、半導体やオプトエレクトロニクス技術を含むアプリケーションの範囲に最適です。