中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9304004 を販売中
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ID: 9304004
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1997
System, 6"
MF Facilities: Rear
Heat exchanger: NESLAB I
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
Buff robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow body without tilt out
Transfer robot blade: Metal
Signal tower: 3 Color
System umbilicals: 25 ft
EMO
No GEM
No OTF
Controller
Generator rack
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Motor controller: 3 Phase
EBARA A07V Pump
Main AC box
Transformer: 200 VAC,3 Phase, 50/60 Hz
MF Enclousure cover installed
MF Gas box
Laser assy
OB- 8F Cryo pump: Enhanced type
Process lift: Motorize type
SBC BD Type: V452
Buffer / Transfer: VHP Conversion possible type
MF Facility box
UPS: Interface type
Chamber A:
Type: PC-II
ADVANCED ENERGY LF10A RF Generator
COMDEL CPS1001S RF Generator
Gas valves: Nupro
Manometer: 100m Torr
LEYBOLD Turbovac 361C Pump
Lid: Resonator
Match box, 6"
LEYBOLD Turbotronic 150 / 360 Turbo controller
EBARA A07V Pump
Gasses:
LEYBOLD Turbo pump
MFC Size / Gas name / MFC Type
300 / Ar / Stec 4400
20 / Ar / Stec 4400
Chamber B:
Type: Cool down
Gas valves: Nupro
Heater / Cathode cooling: PCW
Lid modified to Quartz lid
Chamber 1:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12-650 DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Ion gauge: Nude type
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 2:
Process: AL
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12M Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 Power supply
Susceptor / Pedestal: 4F
Heater / Cathode cooling: NESLAB I
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
MKS Residual gas analyzer installed
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Gas stick configuration
Gas 1 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Chamber 3:
Process: Ti
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-10K DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 4:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-650 HiZ DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 20 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Missing parts for chamber 1:
Drive: 2 Phase
Motor
Gear box
Gear box mount
Belt
Slot / Top rack boards:
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / DI/O Board
5 / DI/O Board
6 / DI/O Board
7 / DI/O Board
8 / DI/O Board
9 / DI/O Board
10 / SEI Board
11 / No 486C
12 / No seriplex
13 / No DI/O board
14 / No AO board
15 / Stepper board
16 / No spare
17 / No spare
18 / Stepper board
19 / AI Board
20 / AO Board
21 / AO Board
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / No grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / No TC
29 / No TC
30 / ION Gauge board
31 / ION Gauge board
32 / No spare
33 / DI/O Board
34 / DI/O Board
35 / DI/O Board
36 / DI/O Board
37 / DI/O Board
38 / No DI/O board
39 / No DI/O board
40 / Floppy Disk Drive (FDD)
41 / No spare
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / No AI Mux
46 / No spare
47 / Opto detect board
48 / Opto detect board
49 / Opto detect board
50 / No spare
UPS: 200 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 350 A
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、半導体生産に使用するために設計されたハイスループット、フル機能のエピタキシャルリアクターです。AKT Endura 5500は、フルオートローダー/アンローダーと複数のプロセスチャンバーを備えており、プロセスの迅速なセットアップとプロセスの均一性の最適化を可能にします。AMAT ENDURA 5500は、小径および大径のエピタキシャルウエハに高いスループットを提供するように設計されています。AMAT Endura 5500は、化学蒸着（CVD）や分子ビームエピタキシー（MBE）など、シリコン、シリコンゲルマニウム、カーボンドープ化シリコンなど、さまざまな材料の増殖に対応しています。この柔軟性は、従来のロジックデバイス、MEMS（マイクロエレクトロメカニカルシステム）、高度なロジック、オプトエレクトロニクスコンポーネントなど、さまざまな製品の生産に対応します。このシステムは、プロセス設定を簡素化する独自のシングルソースリモートコントロールを備えており、最大3つのアプライドマテリアルズENDURA 5500システムの完全なリモート監視が可能です。これには、温度、成長率、プロセス圧力などの複数のプロセスパラメータにリアルタイムでアクセスできるだけでなく、ユーザーが直接プロセスチャンバーを作成できるようにすることも含まれます。このデータは、プロセスの問題をすばやく見つけてトラブルシューティングするのに役立ちます。ENDURA 5500は、さまざまなプロセスチャンバー構成、制約のあるラフト、ボックスサイズを提供し、高速で効率的なウェーハサイクルと大量生産を可能にします。制約のあるラフトは、ウェーハ全体にわたって一貫した熱均一性を確保するために、テラスファッションでウェーハを配置することができ、強化された均一性コントロールを備えています。高度に統合されたカメラシステムにより、4、6、8、および12インチのウェーハで自動ウェーハアライメントが可能になり、一貫した正確なウェーハ処理と処理が可能になります。APPLIED MATERIALTS Endura 5500は、完全に自動化されたウェーハハンドリングモジュールを備えており、手作業によるウェーハハンドリングとローディングに時間がかかりません。これには、Endura 5500のシグネチャ回転カセット転送システムが含まれており、連続的に最大10個のウエハカセットを自動的にロードおよびアンロードして生産を中断することができます。全体として、AKT ENDURA 5500は、高速で大量のウェーハ生産用に設計された、フル機能のエピタキシャルリアクターです。このデバイスには、最新のプロセスチャンバー性能と自動化されたウェーハローディング、およびリモートモニタリングと最適化された均一性制御が装備されており、すべてが一貫した信頼性の高い生産を保証します。
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