中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9241774 を販売中
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販売された
ID: 9241774
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
MOCVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
MF Facilities: Bottom
Load lock type: Narrow BD without tilt out
CTI-CRYOGENICS Buffer chamber
CTI-CRYOGENICS Transfer chamber
No SMIF interface
Mainframe:
Buffer robot type: HP+
Wafer sensor: Mini beam
Buffer robot blade: Metal
Transfer robot type: HP+
Transfer robot blade: Metal
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
(2) CRT Monitors
Chamber 1:
Type: IMP Vectra
Process 1: Ti
Susceptor / Pedestal: B101
Process kit type: IMP
Single manometer configuration
Lid type: G12
Chamber pump: 3P Onboard 8F
Manometer 1: 100 mTorr
Heater / Cathode cooling: NESLAB II
CTI-CRYOGENICS Cryo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
(2) RF Generators / DC Supplies
ADVANCED ENERGY MDX-L12M
ADVANCED ENERGY HFV-8000
ADVANCED ENERGY CX-600S
RF Match: 13.56 MHz, 2 MHz
Shutter option
Gate valve position: 3-Position
2 MHz Matching box capacitor: 0.01uF
Chamber 2:
Chamber type: TxZ HP+
Process 2: CVD TiN
Susceptor / Pedestal: HP+
Dual manometer
Wall cooling: AMAT1
Chamber pump: AA70W
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 100 Torr
No endpoint system
Throttle valve
Heater / Cathode cooling: PCW
ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF Generator / DC Supply
LEYBOLD 361C Turbo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
EBARA AA70W Pump
Gate valve position: 2-Positions
Chamber 3:
Chamber type: TxZ HP+
Chamber process: CVD TiN
Pump configuration: 361C
Susceptor / Pedestal: HP+
Dual manometer
Wall cooling: AMAT1
Chamber pump: AA70W
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 100 Torr
Throttle valve
Heater / Cathode cooling: PCW
ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF Generator / DC Supply
LEYBOLD 361C Turbo pump
EBARA AA70W Pump
Gate valve position: 2-Positions
No endpoint system
Chamber A:
Chamber type: Pass through
Chamber lid: Clear lid
Chamber B:
Chamber type: Cool down
Heater / Cathode cooling: PCW
Chamber lid: Clear lid
Chamber D:
Chamber type: PCII
Chamber process: Oxide etch
Single manometer
Lid type: Resonator
EDWARDS iL600N Chamber pump
Manometer 1: 100 m Torr
COMDEL CPS 1001S RF Generator / DC Supply
LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
EBARA iL70 Pump
RFPP LF10A RF Generator / DC Supply
RF Match: 13.56 MHz
COMDEL CPS-1001S
RFPP LF-10A
Module:
AMAT / APPLIED MATERIALS System controller
(2) AMAT / APPLIED MATERIALS Generator racks
AMAT / APPLIED MATERIALS Main AC box
NESLAB
AMAT / APPLIED MATERIALS Heat exchanger
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor
CTI-CRYOGENICS 3P Motor controller
EDWARDS iL600N Pump
Controllers:
Slot / Top rack board
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / Digital input / Output board 1
5 / Digital input / Output board 2
6 / Digital input / Output board 3
7 / Digital input / Output board 4
8 / Digital input / Output board 5
9 / Digital input / Output board 6
10 / SEI Board
13 / Digital input / Output board 7 (Option)
14 / AO Board 1 (Option)
15 / Stepper board 1
18 / Stepper board 2
19 / AI Board
20 / AO Board 2
21 / AO Board 3
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / Grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / TC
29 / TC
30 / ION Gauge board 1
31 / ION Gauge board 2
32 / Spare
33 / Digital input / Output board 8
34 / Digital input / Output board 9
35 / Digital input / Output board 10
37 / Digital input / Output board 12
39 / Digital input / Output board 14
40 / Floppy disk
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / AI Mux
47 / Opto detect board 1
48 / Opto detect board 2
49 / Opto detect board 3
Power supply: 200 VAC, 60 Hz, 3 Phase, 343 A, 150 kVA
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、高度な半導体、太陽電池、オプトエレクトロニクスなどの用途向けに設計された、革新的な自動化学蒸着(CVD)薄膜コーティング炉です。AKT Endura 5500炉は、プロセスチャンバー容量5500リットルとホットウォール炉の設計により、広範なアクティブ冷却装置により、高熱効率と信頼性を提供します。この原子炉は、AKTの特許取得済みのホットウォールプロセスに基づいており、幅広い薄膜材料に最適な成長条件を提供します。AMAT ENDURA 5500は、ウェーハを直接チャンバーに積み込むことができる特許取得済みライナーを使用しています。これらのライナーは、フィールドの混雑によるポケットやウェーハの薄型化を最小限に抑えるか、排除するように設計されています。さらに、付属のスクラバーストリップは、チャンバー内で最高のプロセス純度を維持します。さらに、APPLIED MATERIALTS ENDURA 5500には、プロセス制御を最適化し、最適なフィルム属性を提供するためのオンボード測定チャンバーが含まれています。AKT ENDURA 5500は、革新的なユニフォームインジェクタ励起システムと特許取得済みのマルチポイント励起パターンを使用して、シャドーイング効果を排除し、より大きなウェーハサイズにわたって均一性を達成し、効率的で均一なフィルム成長のための均一なプラズマを提供します。原子炉のホットウォール設計は、高温でも優れたフィルム特性をもたらす、先端材料の理想的な作業環境を作り出すために働きます。電動キャリアローディングとエンドステーションロボットは、大量のスループットをサポートするように設計されています。完全自動化されたユニットは、負荷ロックチャンバー、ヒューマンマシンインタフェース(HMI)を提供し、操作中の制御、温度制御、リアルタイム監視を簡素化します。要約すると、AMAT Endura 5500はプロセス流体制御と生産のために設計された信頼性の高い効率的なCVD炉です。5500リットルのプロセスチャンバーと外部スクラバーライナーを備えたこのホットウォールマシンは、薄膜材料の成長と最適な薄膜特性の作成に最適です。ユニフォームインジェクタ励起ツール、マルチポイント励起パターン、および電動キャリアローディング機能は、無線周波数ベースの薄膜蒸着に非常に効率的で信頼性の高い資産を提供します。
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