中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9145241 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500
ID: 9145241
ウェーハサイズ: 12"
Spares for PVD Chamber CPO- VMO, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、高度な蒸着およびエッチング用途向けに設計された高性能リアクタです。具体的には、AKT Endura 5500は、熱とプラズマの両方で強化された成膜およびエッチング用途において、薄膜と厚膜の両方の成膜プロセスと困難なエッチングプロセスを可能にします。この原子炉は、シリコン、窒化チタン、ヒ素ガリウム、タングステン、アルミニウムなどの用途向けに、CVDおよびPECVDプロセスステップの両方のために設計されています。AMAT ENDURA 5500リアクターは、高度な蒸着およびエッチング工程のニーズに合わせて設計されたオープンフレームです。このオープンフレーム設計により、システムの内部作業へのアクセス性が向上し、メンテナンスが容易になり、システムの再構成が高速化されます。その柔軟なアーキテクチャは、さまざまなニーズに対応するために簡単に交換できるさまざまな交換可能なコンポーネントシステムを備えたシステム統合機能を提供します。ENDURA 5500は、RF、 Helicon Inductively Coupled Plasma (ICP)、直流(DC)、 パルスDCバイアスモードなど、いくつかの熱機能を誇っています。その調整可能なプロセスパラメータは、プロセス圧力、ソース・ガス・パルス・レジデンス時間、およびRF電力の範囲です。また、特許取得済みのZ軸ウェーハキャリッジを備えており、最大12個のウェーハを同時に収容でき、均一性の向上とより効率的な処理が可能です。この設計により、堆積工程とエッチング工程を容易に分離することができます。AMAT Endura 5500は、ユーザーがプロセス条件を完全に制御できる幅広い機能を搭載した信頼性の高いシステムであることが証明されています。また、直感的なユーザーインターフェイスを備えており、プロセスの最適化を確実にするために、リアルタイムのプロセス監視、トレンド分析、予測分析をユーザーに提供します。これらの機能により、ユーザーは独自のカスタム設定をダイヤルインし、プロセスのパフォーマンスを最適化することができます。同等のシステムよりも高価ですが、AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500は真のスケーラビリティを提供し、高スループット生産からより専門的なプロセス工程まで幅広いニーズに対応できるため、多くの半導体やナノテクノロジーを中心とした組織や大学が投資を選択する魅力的な選択肢となります。
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