中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9101660 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、さまざまな研究および製造アプリケーションで今日の性能要件を満たすように設計された最先端の低圧化学蒸着（LPCVD）炉です。特許取得済みの「高性能」技術を使用して、このエネルギー効率の高い機器は、安全で反復可能で信頼性の高い環境を提供します。モジュラー設計により、リアクタはアプリケーションの特定のニーズに合わせて構成することができます。この設計には、強力な「制御環境」ロボティクスが組み込まれており、正確で反復可能で効率的な基板の読み込みと取り扱いを保証します。AKT Endura 5500は効率的な熱管理技術を採用し、均一で再現性のあるプロセス結果を実現しています。柔軟なプロセスアーキテクトは、単層および多層金属、酸化物、窒化物、ケイ素、二酸化ケイ素などのさまざまな材料をサポートすることができます。LPCVD環境は、さまざまなウエハサイズで均一かつ迅速に高性能な薄膜層を生成します。プロセス領域は、ダイナミックチャンバー圧力コントローラと効果的な熱管理を使用して、外部条件と非常に反復可能から分離されるように設計されています。AMAT ENDURA 5500のオンボード温度範囲は20Cから1000Cまで広がり、正確な蒸着速度と均一な層の厚さを実現します。このシステムは、特定の顧客の要求を満たすように設計されており、特定の範囲で正確な温度制御を可能にします。高精度オートメーションプラットフォームにより、基板サイズが小さくても大きな場合でも、加工中にロードして処理することができ、柔軟性が向上します。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500ユニットには、粒子汚染防止のための高度なプロセスモニタリングマシンや強力なマテリアルハンドリングツールなど、さまざまな統合ツールも含まれています。プロセスモニタリングアセットには便利なアラートが用意されており、プロセスパラメータが設定されていない場合に素早く調整できます。統合されたマテリアルハンドリングモデルは、プロセス材料の正確で再現性のある配信を提供します。また、有害粒子の拡散を最小限に抑える超低粒子噴霧技術を搭載し、クリーンで安全な基板を確保しています。さらに、Endura 5500は、自動制御システムを使用して信頼性と再現性を向上させます。全体として、AMAT Endura 5500は強力で信頼性の高いLPCVDチャンバで、精密な制御、スループットの向上、効率化のために幅広いプロセスを最適化するように設計されています。統合されたセキュリティ、動的温度制御、高度なプロセスモニタリング、直感的なマテリアルハンドリングシステムにより、このユニットは正確で安全で再現可能な薄膜蒸着を提供します。